C07 有機化学（炭素の酸化物，硫化物もしくはオキシ硫化物，シアン，ホスゲン，シアン化水素酸またはそれらの塩Ｃ０１；アンモニウム，ホスホニウムまたはスルホニウム化合物のような有機化合物とのイオン交換によって，または有機化合物の挿入によって，層状塩基交換けい酸塩から得られる物質Ｃ０１Ｂ３３／４４；高分子化合物Ｃ０８；染料Ｃ０９；発酵生産物Ｃ１２；発酵または酵素を使用して，所望の化学物質または組成物を合成する方法あるいはラセミ混合物から光学異性体を分離する方法Ｃ１２Ｐ；電気分解または電気泳動による有機化合物の製造Ｃ２５Ｂ３／００，７／００）［２］ WebFI FI記号=2010年8月版
＜注＞（１）このクラスにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる：
―“製造”は精製，分離，安定化または添加剤の利用を分類する独立した箇所がなければ，それらを包含する。［４］
（２）化合物又は組成物からなる殺傷物剤，有害生物忌避剤，有害生物誘引剤または植物成長調節剤は，サブクラスＡ０１Ｐにも分類される。［８］
（３）サブクラスＣ０７Ｂ〜Ｃ０７Ｋ及びこれらのサブクラスの各々においては，相反する指示のない限り，化合物は最後の適切な箇所に分類する。例えば，非環式鎖と複素環を含有する２−ブチルピリジンは，複素環式化合物としてのみサブクラスＣ０７Ｄに分類する。一般に相反する指示（Ｃ０７Ｃ５９／５８，Ｃ０７Ｃ５９／７０のごとき）がない限り，“非環式”または“脂肪族”という用語は，環をもたない化合物を示す。そしてもし環をもっている場合は，ラストプレイスルールに従い，該当する分類上のグループがあるならば，環式脂肪族化合物または芳香族化合物のそれに分類する。化合物が互変異性体型で存在する場合には，他方の型が，分類体系のより前において特別に規定されていない限り，分類体系の最後の箇所に分類する。
（４）化学的に製造された化合物とその製法は，まず製造された化合物の型にしたがって分類し，ついで製造プロセスはもし重要ならば実施された反応の型のグループにも分類する。二以上のメイングループに属する化合物群を製造する一般的プロセスの場合は，まず採用されたプロセスのグループが分類上存在するならば，それにしたがって分類し，ついで製造された化合物はもし重要ならばその型のグループにも分類する。
（５）このクラスにおいては，相反する指示がないときは，カルボキシルまたはチオカルボキシル基を含有する化合物はラストプレイスルール（上記注（３）参照）が他の箇所を指示しない限り，カルボン酸またはチオカルボン酸の適切な箇所に分類する；カルボキシル基とは，その炭素原子がニトロまたはニトロソ基の窒素原子以外の異種原子に対する３個の結合をもち，４個以上はもたず，同じ異種原子に対する少なくとも１個の多重結合をもつものであり，チオカルボキシル基とは，硫黄原子に対する少なくとも１個の結合をもつカルボキシル基であって，例．カルボン酸のアミドまたはニトリル，それらは対応する酸として分類する。［５］
（６）カルボン酸の無水物およびカルボン酸ハライドは他に掲示がない限り，対応する酸として分類する。化合物の塩は規定されていない限り，その化合物として分類する。例．塩酸アニリンは炭素，水素および窒素のみを含有するものとして（Ｃ０７Ｃ２１１／４６），マロン酸ナトリウムはマロン酸として（Ｃ０７Ｃ５５／０８），またはメルカプチドはメルカプタンとして分類する。金属キレートも同様に取り扱う。同様にして金属アルコラートおよび金属フェノラートはＣ０７Ｃに分類し，Ｃ０７Ｆには分類しない。すなわちアルコラートはＣ０７Ｃ３１／２８から３１／３２に，フエノラートはＣ０７Ｃ３９／２３５またはＣ０７Ｃ３９／４４中の対応するフエノールとして分類する。２種以上の有機化合物相互間の塩，付加物または錯体はその塩，付加物または錯体を形成するすべての化合物について分類する。［２］
C07B 有機化学の一般的方法あるいはそのための装置（テロメリゼーションによるカルボン酸エステルの製造Ｃ０７Ｃ６７／４７；テロメリゼーションＣ０８Ｆ）
＜注＞（１）このサブクラスにおいては，導入された残基中にすでに存在していて，化学反応に本質的に関係のない官能基は，その化学反応の結果，形成または導入された官能基とはみなさない。［４］
（２）このサブクラスにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる：［４］
―“分離”は有機化合物の回収を目的とする分離のみを意味する。［４］
（３）このサブクラスに分類するとき，クロマトグラフィーに関係する一般分野の主題事項に関する限り，グループＢ０１Ｄ１５／０８にも分類する。［８］
（４）このサブクラスにおいては，相反する指示がない限り，化学反応の結果，形成された結合または導入された官能基に注目しつつ，用いられた反応の型に従って最後の適切な箇所に分類される。［４］
＜索引＞異種原子含有官能基の形成または導入を伴わない反応
既に直接結合している炭素原子間の結合の型の変化 ３５／００
炭素−炭素結合の形成またはその切断 ３７／００
異種原子含有官能基の形成または導入を伴う反応
ハロゲン化 ３９／００
酸素含有官能基 ４１／００
窒素含有官能基 ４３／００
硫黄含有官能基 ４５／００
他の官能基 ４７／００
グリニヤール反応 ４９／００
先行するいずれのグループにも包含されない，保護基または活性基の導入 ５１／００
不整合成 ５３／００
ラセミ化，反転 ５５／００
分離，精製，安定化，添加剤の使用 ５７／００，６３／００
同位元素の導入 ５９／００
他の一般的方法 ６１／００
C07B 31/00 還元一般［４］
C07B 33/00 酸化一般［４］
異種原子含有官能基の形成または導入を伴わない反応［４］
C07B 35/00 異種原子含有官能基の形成または導入を伴わない反応であって，既に直接結合している２個の炭素原子間の結合の型の変化を含むもの［４］
C07B 35/02 ・還元［４］
C07B 35/04 ・脱水素［４］
C07B 35/06 ・分解，例．ハロゲン，水またはハロゲン化水素の脱離［４］
C07B 35/08 ・異性化［４］
C07B 37/00 異種原子を含有する官能基の形成または導入を伴わない反応であって，直接結合していない２個の炭素原子間の炭素―炭素結合の形成または直接結合している２個の炭素原子の結合の切断を含むもの［４］
C07B 37/02 ・付加［４］
C07B 37/04 ・置換［４］
C07B 37/04, A Ｃ−Ｈ→Ｃ−Ｃ
C07B 37/04, B Ｃ−Ｘ→Ｃ−Ｃ
C07B 37/04, C Ｃ−Ｏ→Ｃ−Ｃ
C07B 37/04, Z その他
C07B 37/06 ・分解，例．二酸化炭素の脱離［４］
C07B 37/08 ・異性化［４］
C07B 37/10 ・環化［４］
C07B 37/12 ・・ディールス・アルダー反応［４］
異種原子含有官能基の形成または導入を伴う反応［４］
C07B 39/00 ハロゲン化［４］
C07B 39/00, A ハロゲン化一般
C07B 39/00, B フツ素化
C07B 39/00, C 塩素化
C07B 39/00, D 臭素化
C07B 39/00, E ヨウ素化
C07B 39/00, Z その他〔←２種のハロゲンの同時導入，Ｃ−Ｘ結合も同時に形成されるハロアルキル化〕
C07B 41/00 酸素含有官能基の形成または導入［４］
C07B 41/02 ・水酸基またはＯ―金属基の［４］
C07B 41/02, A 芳香環に直結したＯＨ基，ＯＭ基
C07B 41/02, B Ｃ−Ｃ結合の生成を伴うもの〔芳香環に直結したＯＨ，ＯＭ→Ａ〕
C07B 41/02, Z その他
C07B 41/04 ・エーテル基，アセタール基またはケタール基の［４］
C07B 41/06 ・カルボニル基の［４］
C07B 41/06, A アルデヒド基
C07B 41/06, B カルボン酸，その誘導体によるアシル化〔←Ｆｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｒｆｓアシル化〕
C07B 41/06, C 酸化によるもの〔Ａが優先〕
C07B 41/06, D ・酸素以外の酸化剤によるもの
C07B 41/06, Z その他
C07B 41/08 ・カルボキシル基，またはそれらの塩，ハロゲン化物もしくは無水物の［４］
C07B 41/10 ・・カルボキシル基の塩，ハロゲン化物または無水物［４］
C07B 41/12 ・カルボン酸エステル基の［４］
C07B 41/14 ・ペルオキシ基またはヒドロペルオキシ基の［４］
C07B 43/00 窒素含有官能基の形成または導入［４］
C07B 43/02 ・ニトロ基またはニトロソ基の［４］
C07B 43/04 ・アミノ基の［４］
C07B 43/06 ・アミド基の［４］
C07B 43/08 ・シアノ基の［４］
C07B 43/10 ・イソシアネート基の［４］
C07B 45/00 硫黄含有官能基の形成または導入［４］
C07B 45/02 ・スルホ基またはスルホニルジオキシ基の［４］
C07B 45/04 ・スルホニル基またはスルフィニル基の［４］
C07B 45/06 ・メルカプト基またはスルフィド基の［４］
C07B 47/00 官能基の形成または導入であって，グループ３９／００から４５／００までに分類されないもの［４］
＜見出し終了＞
C07B 49/00 グリニヤール反応［４］
C07B 51/00 保護基または活性基の導入であって，グループ３１／００から４９／００に分類されないもの［４］
C07B 51/00, A 保護基・保護方法
C07B 51/00, B ・ＯＨ基
C07B 51/00, C ・ＣＯＯＨ基
C07B 51/00, D ・ＮＨ↓２基
C07B 51/00, E ・その他の官能基
C07B 51/00, F 脱保護方法
C07B 51/00, G 活性基・活性化方法
C07B 51/00, Z その他
C07B 53/00 不整合成［４］
C07B 53/00, A 不整原子または分子不整の生成
C07B 53/00, B ・不整原子または分子不整をもつ触媒を用いるもの
C07B 53/00, C ・不整原子または分子不整をもつ反応試剤を用いるもの
C07B 53/00, D ・光反応によるもの
C07B 53/00, E ・その他の手段によるもの
C07B 53/00, F 不整原子を含む結合の切断，生成で不整原子または分子不整が新たに生成しないもの
C07B 53/00, G 不整原子を含む結合の切断，生成の起こらないもの〔←立体配置保持合成〕
C07B 53/00, Z その他
C07B 55/00 ラセミ化；完全反転または部分反転［４］
C07B 55/00, A ラセミ化
C07B 55/00, B 反転
C07B 55/00, Z その他
C07B 57/00 光学活性化合物の分離［４］
C07B 57/00,310 ・一般
C07B 57/00,320 ・炭化水素
C07B 57/00,330 ・ハロゲン含有化合物
C07B 57/00,340 ・酸素含有化合物〔←エーテル，ケトン，エステル，オキシラン〕
C07B 57/00,343 ・・アルコール，フエノール
C07B 57/00,346 ・・カルボン酸
C07B 57/00,350 ・窒素含有化合物〔←含窒素複素環〕〔ラクタム，イミド→３７０〕
C07B 57/00,360 ・・アミン〔←ヒドロキシアミン，そのエーテル，エステル〕
C07B 57/00,365 ・・アミノ酸
C07B 57/00,370 ・・カルボン酸アミド〔→ラクタム，イミド，ペプチド〕
C07B 57/00,380 ・硫黄含有化合物
C07B 57/00,390 ・Ｂ，Ｓｉ，Ｐ化合物，有機金属化合物
C07B 59/00 有機化合物中への同位元素の導入［４］
C07B 61/00 他の一般的方法［４］
C07B 61/00, A 化学反応方法
C07B 61/00, B ・化学的手段によるもの〔←反応試剤，溶媒の選択〕〔触媒反応→Ｃ０７Ｂ６１／００ ３００〕
C07B 61/00, C ・物理的手段によるもの〔←装置，プロセス，その組合せ〕
C07B 61/00, D ・その他の手段によるもの〔←光，音，磁場，原子核変換〕
C07B 61/00, E 物理的変化を目的とする方法〔←物質の状態の変化〕
C07B 61/00, Z その他の方法〔←命名法，コンピユータケミストリ〕
C07B 61/00,300 ・触媒反応
C07B 61/02 ・有機遊離基の生成［４］
精製；分離；安定化［４］
C07B 63/00 精製；分離（光学活性化合物の分離５７／００）；安定化；添加剤の使用［４］
C07B 63/00, A 蒸留〔←パーベーパーレーシヨン，抽出蒸留〕
C07B 63/00, B 液−液処理〔←抽出〕
C07B 63/00, C ・超臨界抽出
C07B 63/00, D 固−液処理〔←濾過〕
C07B 63/00, E ・結晶化，結晶の精製〔←晶析〕
C07B 63/00, F ・吸着〔←クロマト〕
C07B 63/00, G 気−液処理〔←凝縮，液体による気体の吸収〕〔←ストリツピング〕
C07B 63/00, H 固−気処理〔←昇華，固体による気体の吸着〕
C07B 63/00, Z その他の方法
C07B 63/02 ・化学的変化をひきおこす処理によるもの［４］
C07B 63/02, A イオン交換
C07B 63/02, B 包接化合物の生成を利用するもの
C07B 63/02, C 塩の生成を利用するもの〔←キレート化〕
C07B 63/02, D 還元剤処理
C07B 63/02, E ・水素
C07B 63/02, Z その他〔←酸処理，アルカリ処理，ｐＨ調整，電気透析〕
C07B 63/04 ・添加剤の使用［４］
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