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G02F　装置OR準備、いずれが装置の媒体か強度の制御のための準備の光学特性を変えることにより修正されるか、光学動作、色、位相、分極化または光の方向、例えばスイッチング、ゲート、調整するかまたは復調すること；技術またはそれの動作のための手順；頻度が変化すること；非線形光学；光学論理素子；光学アナログ/デジタルコンバータ(測定することと、関連して部材を検出するか、示すかまたは一部を記録すること間の光学的移送手段G01D 5/26；数値演算が光学エレメントで行われる装置G06E 3/00, {G06E 3/001}；入力信号を転換するために光学手段を使用している電気信号動力伝達装置G08C 19/36；電気であるか磁気手段によって、information-recordingして、検知光学特性によって、複製することG11B 11/00；光学エレメントを使用している静的ストアG11C 13/04電波以外の電磁波を使用している動力伝達装置、例えば光、赤外放射、 H04B 10/00；光学的多重システムH04J 14/00画像の伝達、例えばテレビH04N)

G02F 1/00 強度、色、位相、分極化または独立光源から到着している光の方向の制御のための装置または配置、例えばスイッチング、ゲート、または変調すること；非線形光学(色または透光性の変更を使用している温度計G01K 11/12；蛍光の変化を使用することG01K 11/32；光導体装置G02B 6/00；光源から独立している制御照明用の可動であるか変形可能な素子を使用している光デバイスまたは準備G02B 26/00；光の一般に制御G05D 25/00；可視信号を送っているシステムG08B 5/00；選択による可変的な情報または個々の素子の組合せのための準備を示すことG09F 9/00；CRT以外の視覚インジケータのための制御準備または回路G09G 3/00；光源の制御H01S 3/10, H05B 33/08, H05B 35/00 to H05B 43/00； {光発色性フィルタG02B 5/23；光学論理素子G02F 3/00})

G02F 1/0009 ・{そのための材料}

G02F 1/0018 ・・{電気光学材料}

G02F 1/0027 ・・・{強誘電性特性を有する(強誘電性材料の領域逆転G02F 1/3558；強誘電性材料一般にH01G 7/02)}

G02F 1/0036 ・・{光磁気材料(磁気材料一般にH01F)}

G02F 1/0045 ・・{物理的特性まで液晶は、関する(化学組成および液晶の特性C09K 19/00)}

G02F 1/0054 ・・{構造、相転移、 NMR、 ESR、メスバウアー・スペクトル}

G02F 1/0063 ・・｛光学特性例えば吸収、反射、非線形効果、複屈折(非線形光学一般にG02F 1/35)}

G02F 1/0072 ・・{機械的である、音響、電子ゴム、磁気弾力的な特性}

G02F 1/0081 ・・{電気的であるか磁気特性}

G02F 1/009 ・・{熱特性(色または透光性の変更を使用している温度計G01K 11/12；放射線高温測定G01J 5/00)}

G02F 1/01 ・強度の制御のための、位相、分極化または色(G02F 1/29, G02F 1/35 優位をとる；素子に極性を与えることそれ自体G02B 5/30；静的記憶装置当然G11C；シャッタ動作によって、光弁として作用しているイメージ管スクリーンH01J 29/12；変色により行っているこの種のスクリーンH01J 29/14｛テレビ用の投影配置は、再生を撮像する、例えばeidophorを使用することH04N 5/74；光による記録G11B 7/00 to G11B 11/00})

G02F 1/0102 ・・{構造上の詳細(G02F 1/1306, G02F 1/133 優位をとる)}

G02F 1/0105 ・・・{照明装置(液晶セルのためのG02F 1/13357；電子時間部分のための表示装置のためのG04G 9/0041)}

G02F 1/0107 ・・・{ガスケット、スペーサ、細胞のシーリング；充填材およびセルの閉鎖(液晶セルのためのG02F 1/1339, G02F 1/1341；エレクトロクロミックであるか電解細胞のためのG02F 1/161)}

G02F 1/011 ・・{光導波路の(G02F 1/0134, G02F 1/01708, G02F 1/025, G02F 1/035, G02F 1/0508, G02F 1/0553, G02F 1/065, G02F 1/073, G02F 1/095, G02F 1/125, G02F 1/1326, G02F 1/225 優位をとる；光導波路一般にG02B 6/00)}

G02F 1/0115 ・・・{光ファイバの}

G02F 1/0118 ・・・・｛活動に繊維から光の感知しにくいカップリングを制御することによって、例えば電気光学である、オーバレイ}

G02F 1/0121 ・・{装置の動作；他に分類されない回路配置(G02F 1/0327, G02F 1/0516, G02F 1/076, G02F 1/092, G02F 1/113, G02F 1/13306, G02F 1/163 優位をとる)}

G02F 1/0123 ・・・｛制御のための回路またはバイアス電圧の安定化、例えば自動バイアス制御(ABC)フィードバックループ}

G02F 1/0126 ・・｛他の光線によって、すなわち光光学変調(G02F 1/01716, G02F 1/0338, G02F 1/0533, G02F 1/0541, G02F 1/0558, G02F 1/135, G02F 1/293 優位をとる)}

G02F 1/0128 ・・{電子メカニカルに基づいて、磁気機械的である、elasto光学の効果}

G02F 1/0131 ・・・｛elasto-目（すなわち光弾性効果）に基づく例えば機械的に誘発された複屈折(音響光学装置G02F 1/11)}

G02F 1/0134 ・・・・{光導波路の}

G02F 1/0136 ・・｛分極化の制御のために、例えば分極化の状態(SOP)制御、急いでいる分極化、TE-TMモード転換または分離(G02F 1/0353 優位をとる)}

G02F 1/0147 ・・{サーモ視覚効果に基づいて(G02F 1/132 優位をとる；tenebrescentな組成物C09K 9/00；放射線高温測定G01J 5/00；色または透光性の変更を使用している温度計G01K 11/12)}

G02F 1/015 ・・少なくとも一つの潜在的ジャンプ・バリアを有する半導体素子に基づいて、例えば PN、ピン接合(G02F 1/03 優位をとる)

G02F 1/017 ・・・周期的であるか類似した周期的な潜在的バリエーションを有する構造、例えば超格子、量子ウェル

G02F 1/01708 ・・・・{光学的wavequide構造で}

G02F 1/01716 ・・・・{光学的に制御超格子または量子ウェル装置}

G02F 1/01725 ・・・・｛非矩形の量子井戸構造については、例えば連結される、等級分けされる、段階状の量子ウェル}

G02F 1/025 ・・・光学導波路構造の(G02F 1/017, {G02F 1/2257}優位をとる)

G02F 1/03 ・・セラミックまたは電気光学結晶を主成分として、例えばポッケルス効果またはカー効果を呈すること(G02F 1/061 優位をとる)

G02F 1/0305 ・・・{構造上の配置(G02F 1/0327 to G02F 1/05 優位をとる)}

G02F 1/0311 ・・・・｛光学エレメントの構造上の関連、例えばレンズ、偏光子、位相板、水晶を有する}

G02F 1/0316 ・・・・{電極}

G02F 1/0322 ・・・・{2つ以上のそれぞれに制御結晶から成る準備}

G02F 1/0327 ・・・{細胞の動作；回路配置(G02F 1/05 優位をとる)}

G02F 1/0333 ・・・｛荷電粒子の光によって、対象にされる例えば二次電子放出または衝撃により誘発された伝導率効果を呈している隣接層の方向を目指す(G02F 1/05 優位をとる；エレクトログラフィ、電子写真G03G；光弁として作用している陰極線管用のスクリーンH01J 29/12)}

G02F 1/0338 ・・・{構造的に、光導電層によって、またはフォト屈折特性を有する関連する(G02F 1/05 優位をとる)}

G02F 1/0344 ・・・{電気導波管の高周波電磁波構成素子により制御される(G02F 1/0356, G02F 1/05, G02F 1/2255, G02F 1/3134 優位をとる)}

G02F 1/035 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/0353 ・・・・{電気光学TE-TMモード転換を含むこと}

G02F 1/0356 ・・・・{電気導波路構造の高周波電磁波構成素子により制御される}

G02F 1/05 ・・・強誘電性特性を有する(G02F 1/035, G02F 1/055 優位をとる； {強誘電性材料の領域逆転G02F 1/3558；強誘電性デジタル・ストアG11C 11/22})

G02F 1/0508 ・・・・{特別にゲートで制御するかまたは光導波路において、調整することに適している}

G02F 1/0516 ・・・・{細胞の動作；回路配置}

G02F 1/0525 ・・・・｛荷電粒子の光によって、対象にされる例えば二次電子放出または衝撃により誘発された伝導率効果を呈している隣接層の方向を目指す(エレクトログラフィ、電子写真G03G；光弁として作用しているブラウン管用のスクリーンH01J 29/12)}

G02F 1/0533 ・・・・{構造的に光導電層を伴う}

G02F 1/0541 ・・・・{フォト屈折効果を利用すること(ホログラフィG03H；干渉パターンを使用している電気光学デジタル静的ストアG11C 13/044)}

G02F 1/055 ・・・セラミックである活物質(G02F 1/035 優位をとる)

G02F 1/0551 ・・・・{構造上の詳細}

G02F 1/0553 ・・・・{特別にゲートで制御するかまたは光導波路において、調整することに適している}

G02F 1/0555 ・・・・{細胞の動作；回路配置}

G02F 1/0556 ・・・・{特別に特定のアプリケーションに適している}

G02F 1/0558 ・・・・{構造的に光導電層または呈しているフォト屈折特性を伴う}

G02F 1/061 ・・電気光学有機材料を主成分として(G02F 1/07, {G02F 1/13}優位をとる)

G02F 1/065 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/07 ・・カー効果を呈している電気光学液体を主成分として

G02F 1/073 ・・・{特別にゲートで制御するかまたは光導波路において、調整することに適している}

G02F 1/076 ・・・{細胞の動作；回路配置}

G02F 1/09 ・・光磁気素子に基づいて、例えばファラデー効果を呈すること

G02F 1/091 ・・・{マグネト-吸収またはマグネト-反射に基づいて}

G02F 1/092 ・・・{細胞の動作；回路配置}

G02F 1/093 ・・・｛非互恵的な装置として使用する例えば光アイソレータ、サーキュレータ(G02F 1/0955 優位をとる)}

G02F 1/095 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/0955 ・・・・｛非互恵的な装置として使用する例えば光アイソレータ、サーキュレータ}

G02F 1/11 ・・音響光学エレメントに基づいて、例えばしっかりしたか機械の波によって、可変回折を使用すること({波普及のないelasto光学の効果G02F 1/0131；}音響光学屈折G02F 1/33)

G02F 1/113 ・・・{回路または制御配置}

G02F 1/116 ・・・｛光学的に異方性の媒体を使用すること、そこにおいて、事件および回析された光波は、異なる分極化を有する、例えば音響光学調整できるフィルタ(AOTF) (G02F 1/125 優位をとる)}

G02F 1/125 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/13 ・・液晶を主成分として、例えば一つの液晶ディスプレイ細胞(液晶材C09K 19/00)

G02F 1/1303 ・・・{装置は、特別にLCDの製造に適応した}

G02F 1/1306 ・・・{詳細(使われない、サブグループを参照)}

G02F 1/1309 ・・・・{修理すること；テスト(光学装置のテストG01M 11/00ディスプレイまたはディスプレイドライバの電子テスト、例えばLCDの、 G09G 3/006)}

G02F 1/1313 ・・・{特別に特定のアプリケーションに適している}

G02F 1/132 ・・・{サーモ視覚効果を呈している液晶の熱活性化(色の変更を使用している温度計または液晶の透光性G01K 11/165；マトリックスの熱的に対処された液体水晶素子G09G 3/3603)}

G02F 1/1323 ・・・{スイッチで切り替え可能な視聴角度を提供するための準備}

G02F 1/1326 ・・・{ゲートのために特別に構成されるかまたは光導波路の間で変調している液晶光導波路または液晶セル}

G02F 1/133 ・・・構造上の配置；液晶セルの動作；回路準備(装置または液体中で水晶素子の制御のための回路{部分は、示す、または、}マトリックス、構造的にこれらの素子と関連しない、 {それぞれG09G 3/18 そして、}G09G 3/36)

G02F 1/13306 ・・・・{回路配置または一つの液晶セルの制御のための駆動方法(G02F 1/132, G02F 1/133382 優位をとる)}

G02F 1/13318 ・・・・・{光センサを備えた回路}

G02F 1/1333 ・・・・構造上の配置； {製造方法}(G02F 1/135, G02F 1/136 優位をとる)

G02F 1/133305 ・・・・・｛可撓性基体、例えばプラスチック、有機フィルム}

G02F 1/133308 ・・・・・｛液晶表示パネル即時の支持構造物、例えば前部で後ろのフレームまたは表縁}

G02F 1/13334 ・・・・・{プラズマは、液晶セルに対処した[PALC}(プラズマパネルH01J 17/49)]

G02F 1/133345 ・・・・・{絶縁層(G02F 1/1335, G02F 1/1337, G02F 1/135, G02F 1/136 優位をとる)}

G02F 1/133348 ・・・・・｛荷電粒子、例えば電子ビーム、対象にされた液晶電池(光弁として作用している陰極線管用のスクリーンH01J 29/12；エレクトログラフィ、電子写真G03G)}

G02F 1/133351 ・・・・・｛複数の細胞からの別体セルの製造、例えば市松模様によって}

G02F 1/13336 ・・・・・｛広域ディスプレイを生産するために複数の下地を結合すること、例えばタイル張りのディスプレイ}

G02F 1/133362 ・・・・・{光学的に対処された液晶セル(G02F 1/135 優位をとる)}

G02F 1/133365 ・・・・・{活動層が液体結晶質の重合体から成る細胞(液体結晶質の重合体一般にC09K 19/38)}

G02F 1/133371 ・・・・・{液晶層の厚みを変化させることに関する細胞}

G02F 1/133377 ・・・・・｛複数のコンパートメントを有するまたは壁により分割される液晶マイクロセルの複数を有する細胞例えば1つのマイクロセル／ピクセル}

G02F 1/13338 ・・・・・｛入力装置、例えばタッチパネル(特別にコンピュータに対する入力装置として適しているG06F 3/033；タッチパネルそれ自体G06K 11/06、キーボード・スイッチ当然H01H 13/70)}

G02F 1/133382 ・・・・・｛熱くなるかまたは活性化のための別の液晶セルの中で冷える例えば温度制御のための回路または配置、細胞の上の安定化または同一の配布}

G02F 1/133385 ・・・・・・｛冷却手段で、例えばファン}

G02F 1/1334 ・・・・・ポリマー分散液晶を主成分として、例えばマイクロカプセルに入れられた液晶{(組成物C09K 19/544)}

G02F 1/13342 ・・・・・・{ホログラフィック・ポリマー分散液晶}

G02F 1/1335 ・・・・・光デバイスの構造上の関連、例えば偏光板、反射器または明らかにする装置、細胞を有する

G02F 1/133502 ・・・・・・{反射よけである、屈折率整合層}

G02F 1/133504 ・・・・・・{広まること、散乱、回析している素子(装置を照らすことに関連するG02F 1/13357)}

G02F 1/133509 ・・・・・・｛フィルタ、例えば遮光マスク(光学フィルタG02B 5/20)}

G02F 1/133512 ・・・・・・・｛遮光層、例えば黒いマトリックス(G02F 1/136209 優位をとる)}

G02F 1/133514 ・・・・・・・{波長フィルタ(発光の素子G02F 1/13357L)}

G02F 1/133516 ・・・・・・・・｛それの製作の方法、例えば印刷すること、電着、フォトリソグラフィ(凹凸のある、またはパターン化された表層の写真製版法の製造G03F)}

G02F 1/133524 ・・・・・・｛光導体、例えば光ファイバ束、よろい窓のついたまたはブラインド光導体}

G02F 1/133526 ・・・・・・｛レンズ、例えばマイクロレンズ、フレネルレンズ(レンズ一般にG02B 3/00)}

G02F 1/133528 ・・・・・・{偏光板(偏光板それ自体G02B 5/30)}

G02F 1/133533 ・・・・・・・{色選択的な偏光板(G02F 1/1347 優位をとる)}

G02F 1/133536 ・・・・・・・{反射偏光子(G02F 1/13357Pは、優位をとる)}

G02F 1/133553 ・・・・・・{素子を反映すること(装置を照らすことに関連するG02F 1/13357)}

G02F 1/133555 ・・・・・・・{Transflectors}

G02F 1/1336 ・・・・・・{装置を照らすこと(一般にF21V；電子時計用の表示装置と関連するG04G 9/0041)}

G02F 1/133602 ・・・・・・・{直射的なバックライト}

G02F 1/133603 ・・・・・・・・{LEDを有する}

G02F 1/133604 ・・・・・・・・{ランプを有する}

G02F 1/133605 ・・・・・・・・{上記は、特別に構成される反射器を含む}

G02F 1/133606 ・・・・・・・・{上記は、含む特別に構成される広まっている、散乱または軽い制御部材}

G02F 1/133608 ・・・・・・・・{上記は、特定のフレームまたは支持手段を含む}

G02F 1/133609 ・・・・・・・・｛混じっている色を改善するための手段を含むこと、例えば白}

G02F 1/133611 ・・・・・・・・{上記は、明るさ均一性を改良するための手段を含む}

G02F 1/133615 ・・・・・・・｛端明らかにする装置、すなわち側から明らかにする(G02B 6/0001 優位をとる)}

G02F 1/133617 ・・・・・・・{紫外線光を有する照明；発光の素子または材料は、細胞に結合した}

G02F 1/13362 ・・・・・・・｛提供することは、光に極性を与えた、例えば分極化構成素子を別のものに変換することによって(極性を持つための光学系G02B 27/28)}

G02F 1/133621 ・・・・・・・{着色した光を出力すること(G02F 1/133617, G02F 1/133533 優位をとる)}

G02F 1/13363 ・・・・・・複屈折素子、例えば光学補償のための

G02F 1/133632 ・・・・・・・{LC-層面と関連して傾けられる屈折率楕円体を有する}

G02F 1/133634 ・・・・・・・｛平面方向の屈折インデックスNxおよびNyと異なる素子面と直角をなす屈折率Nz例えば二軸であるか通常の光軸に賛成である}

G02F 1/133636 ・・・・・・・｛ねじられた方位については、例えば上記は、正しい位置に置いて螺旋状に成り立つ

G02F 1/1337 ・・・・・液晶分子の表層により誘発された方位、例えば配置層によって

G02F 1/133703 ・・・・・・{有機界面活性剤添加物を液晶材にもたらすことによって(C09K 19/56 優位をとる)}

G02F 1/133707 ・・・・・・｛生じるための構造は、電界をゆがめた、例えば衝突、突出、凹部、ピクセル電極の切れ込み}

G02F 1/133711 ・・・・・・｛有機フィルムによって、例えばポリマーフィルム}

G02F 1/133719 ・・・・・・・｛カップリング剤分子については、例えばシラン}

G02F 1/133723 ・・・・・・・{ポリイミド、ポリアミドイミド}

G02F 1/133734 ・・・・・・｛斜めに蒸着するフィルムによって、例えばSiまたはSiO2膜}

G02F 1/133753 ・・・・・・｛方位またはpretiltが同じ表層に曲げる異なる配置については例えばグレースケールまたは改良された視聴角度のための}

G02F 1/13378 ・・・・・・｛表層の処置によって、例えばエンボシング、すれること、軽い照射(G02F 1/133711, G02F 1/133734, G02F 1/133753 優位をとる)}

G02F 1/133784 ・・・・・・・{すれることによって}

G02F 1/133788 ・・・・・・・｛軽い照射によって、例えば線形に極性を与えられた軽いフォト重合}

G02F 1/1339 ・・・・・ガスケット；スペーサ、 {また、特性を実行することに関するスペーサ(電気線コネクタH01R)}；細胞のシーリング

G02F 1/13392 ・・・・・・｛スペーサは、細胞下地に分散した、例えば球状分子、マイクロ繊維}

G02F 1/13394 ・・・・・・｛定期的に細胞に従って作られるスペーサは、subtrateする、例えば壁、柱(G02F 1/133377 優位をとる)}

G02F 1/1341 ・・・・・充填材またはセルの閉鎖{(G02F 1/133365, G02F 1/1334 優位をとる)}

G02F 1/1343 ・・・・・電極{(反射電極G02F 1/133553)}

G02F 1/134309 ・・・・・・{それらの幾何学的な装置によって、特徴付けられる(G09F 9/302 優位をとる)}

G02F 1/134327 ・・・・・・・｛分割される、例えばアルファ数値ディスプレイ}

G02F 1/134336 ・・・・・・・{マトリックス}

G02F 1/134363 ・・・・・・・｛下地と平行の電界を適用するためにすなわち平面方向のスイッチング(IPS)}

G02F 1/13439 ・・・・・・{特徴を描写するそれら電気である、光学である、物理的特性；そのための材料；製作の方法}

G02F 1/1345 ・・・・・電極を電池端子に接続している導体

G02F 1/13452 ・・・・・・{ドライバ回路を接続している導体およびパネルの端末(H01L 21/00 優位をとる；細胞内部の電気詳細G02F 1/133;)}

G02F 1/13454 ・・・・・・{アクティブ・マトリックス下地に統合されるドライバ(G02F 1/136277 優位をとる)}

G02F 1/13458 ・・・・・・{ターミナル・パッド}

G02F 1/1347 ・・・・・液晶層の配列または1つの光線の最終的な条件が2枚の層以上または細胞の効果の追加によって、成し遂げられる細胞{(液晶弁を有するカラー投影ディスプレイH04N 9/3197)}

G02F 1/13471 ・・・・・・｛。そこにおいて、全ての液晶セルまたは層は、透明なままである、例えばFLC、 ECB、 DAP、 HAN、 TN、 STN、SBE-LC細胞(G02F 1/13475 優位をとる)}

G02F 1/13473 ・・・・・・・{波長ろ過のためにまたは色のために色モザイクを用いない表示は、濾過される}

G02F 1/13475 ・・・・・・｛。そこにおいて、少なくとも一つの液晶セルまたは層は、pleochroicな染料で不純物を添加される例えばGH-LC細胞(G02F 1/13476 優位をとる)}

G02F 1/13476 ・・・・・・{少なくとも一つの液晶セルか層は、いずれにおいて、散在する様相な状況か}

G02F 1/135 ・・・・液晶セルは、構造的にphotoconductingまたは強誘電性層と関連した、いずれが光学的にまたは電気的に多様でありえるか、特性{(G02F 1/133348 優位をとる)}

G02F 1/1354 ・・・・・{特定のphotoconductingしている構造または材料を有する}

G02F 1/1358 ・・・・・{強誘電性層である補助層}

G02F 1/136 ・・・・構造的に半分を行っている層または下地と関連する液晶セル、例えば集積回路の一部を形成している細胞(G02F 1/135 優位をとる)

G02F 1/1362 ・・・・・アクティブ・マトリックスは、細胞を対象にした{(G02F 1/134336, G02F 1/134363 優位をとる)}

G02F 1/136204 ・・・・・・{高電圧または静電気失敗を予防する準備}

G02F 1/136209 ・・・・・・｛遮光層、例えば黒いマトリックス（アクティブ・マトリックス下地に取り入れられる）例えば構造的にスイッチング素子と関係している}

G02F 1/136213 ・・・・・・{ピクセル電極と関連する記憶コンデンサ}

G02F 1/136227 ・・・・・・{絶縁層による能動素子に対するピクセル電極の通り穴接続}

G02F 1/13624 ・・・・・・{複数のスイッチング素子／ピクセルを有する}

G02F 1/136259 ・・・・・・{修理すること；欠陥}

G02F 1/136277 ・・・・・・｛半導体基板に形をなした例えばシリコン}

G02F 1/136286 ・・・・・・｛配線、例えばゲートライン、ドレン管路}

G02F 1/1365 ・・・・・・スイッチング素子は、いずれにおいて、2-電極装置であるか{(G02F 1/136277 優位をとる)}

G02F 1/1368 ・・・・・・スイッチング素子は、いずれにおいて、3-電極装置であるか{(G02F 1/136277 優位をとる)}

G02F 1/137 ・・・特定の電気-または磁気光学効果によって、特徴付けられる、例えば分野により誘発された相転移、方位効果、客用のホスト相互作用、動散乱

G02F 1/13718 ・・・・{コレステロール液晶のテクスチャ様相の変化に基づいて}

G02F 1/13725 ・・・・{客用のホスト相互作用に基づいて(G02F 1/13762, G02F 1/13737、優位をとる)}

G02F 1/13731 ・・・・{分野により誘発された相転移に基づいて(G02F 1/13781 優位をとる)}

G02F 1/13737 ・・・・・{plechroicな染料で不純物を添加される液晶の}

G02F 1/13743 ・・・・{液晶のelectrohydrodynamicな不安定性または領域構造に基づいて}

G02F 1/1375 ・・・・・{動散乱を使用すること}

G02F 1/13762 ・・・・{上記は、発光であるか電子発光添加物を含む(発光の材料一般にC09K 11/00；添加物から成る液晶の組成物C09K 19/52 to C09K 19/603；電子発光光源H05B 33/00)}

G02F 1/13768 ・・・・{磁気光学効果に基づいて}

G02F 1/13781 ・・・・{smecticな液晶を使用すること(G02F 1/141 優位をとる)}

G02F 1/139 ・・・・液晶が透明なままである方位効果に基づいて

G02F 1/1391 ・・・・・{双安定であるかマルチ安定液晶セル(G02F 1/141 優位をとる)}

G02F 1/1392 ・・・・・{誘電異方性の分野により誘発された徴候-反転を使用すること}

G02F 1/1393 ・・・・・｛電気的に制御されている液晶の複屈折、例えばECB-、 DAP-、 HAN-、π-LC細胞(G02F 1/1396, G02F 1/141 優位をとる)}

G02F 1/1395 ・・・・・・{光学的に補償複屈折(OCB)- 細胞またはPI-細胞}

G02F 1/1396 ・・・・・｛ゆがんだ状態および非ゆがんだ状態の間で選択的に制御されている液晶例えばTN-LC細胞(G02F 1/141 優位をとる)}

G02F 1/1397 ・・・・・・｛90度よりかなり高いねじれ、例えば STN-、 SBE-、OMI-LC細胞}

G02F 1/141 ・・・・・強誘電性の液晶を使用すること

G02F 1/1416 ・・・・・・｛smecticな層状構造の詳細、例えば本棚、Ｖ形、 C1 そして、C2}

G02F 1/1418 ・・・・・・｛smecticな液晶を使用すること、例えばelectroclinicな効果に基づいて}

G02F 1/15 ・・エレクトロクロミック素子に基づいて{(エレクトロクロミック材料C09K 9/00)}

G02F 1/1506 ・・・{電極上のまたはの近くの非有機材料の電解析出に基づいて}

G02F 1/1508 ・・・・{固体電解質を使用すること}

G02F 1/1521 ・・・｛有機液体溶液の酸化減少に基づく例えばviologens溶液}

G02F 1/1523 ・・・｛固体無機材料に基づく例えば遷移金属合成物、例えば液体または固体電解質と結合して(G02F 1/1506 優位をとる)}

G02F 1/1525 ・・・・｛層を輸送している特定のイオンによって、特徴付けられる例えば電解質(H01M 6/18, H01M 10/08 優位をとる)}

G02F 1/1527 ・・・・{イリジウム酸化物または水酸化物を主成分として}

G02F 1/153 ・・・構造上の配置

G02F 1/1533 ・・・・{他に分類されない構造上の特徴}

G02F 1/155 ・・・・電極

G02F 1/157 ・・・・光デバイスの構造上の関連、例えば反射器または明らかにする装置、細胞を有する

G02F 1/161 ・・・・ガスケット；スペーサ；細胞のシーリング；充填材またはセルの閉鎖

G02F 1/163 ・・・エレクトロクロミック細胞の動作；回路配置

G02F 1/167 ・・電気泳動に基づいて

G02F 1/17 ・・可変吸収部材に基づいて(G02F 1/015 to G02F 1/167 優位をとる； {tenebrescentな組成物C09K 9/00})

G02F 1/172 ・・・｛方向付けなdipolar分子の懸濁液に基づく例えば懸架された分子ディスプレイ}

G02F 1/174 ・・・｛吸収バンド-シフトに基づく例えばスターク−またはフランツ-ケルディシュ効果(G02F 1/015, G02F 1/178 優位をとる)}

G02F 1/176 ・・・{acid-を使用することは、インジケータの基礎を形成した}

G02F 1/178 ・・・{圧力効果に基づいて(G02F 1/195 優位をとる)}

G02F 1/19 ・・多様な反射または屈折素子に基づいて({G02F 1/01M3}, G02F 1/015 to G02F 1/167 優位をとる)

G02F 1/195 ・・・{失敗する反省を用いて(制御全反射を使用しているデジタル反射G02F 1/315)}

G02F 1/21 ・・干渉によって

G02F 1/216 ・・・｛液晶を使用すること、例えば液晶ファブリー-ペロー・フィルタ}

G02F 1/218 ・・・{半分を行っている材料を使用すること}

G02F 1/225 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/2252 ・・・・{光ファイバの}

G02F 1/2255 ・・・・{電気導波路構造の高周波電磁部品により制御される}

G02F 1/2257 ・・・・{半導体化している材料でできている光導波路}

G02F 1/23 ・・色の制御のための(G02F 1/03 to G02F 1/21 優位をとる)

G02F 1/25 ・・・色または支配的な波長に関しては

G02F 1/29 ・位置の制御または光線の方向のための、すなわち屈折({光学的結合手段G02B 6/26；optical-mechanicalなスキャン一般にG02B 26/10}；電気的であるか磁気読込みおよび光学読み出しを有する静的ストアG11C；レーザーは、場所を変える手段を提供したそれ、または中で方向それ、レーザ放射は、発されるH01S 3/101)

G02F 1/292 ・・{制御回折または段階的な配列光線ステアリングによって(光学スイッチングのための制御回折G02F 1/31)}

G02F 1/293 ・・｛他の光線によって、すなわち光光学屈折}

G02F 1/295 ・・{アナログの屈折から、または、}光学導波路構造の]

G02F 1/2955 ・・・{制御回折または段階的な配列光線ステアリングによって(光導波路スイッチングのための制御回折G02F 1/313)}

G02F 1/31 ・・デジタル屈折、｛すなわち光学スイッチング}(G02F 1/33 優位をとる)

G02F 1/313 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/3131 ・・・・{光ファイバの}

G02F 1/3132 ・・・・{指向性カプラ・タイプの(全て光学変調、非線形指向性カプラを使用しているゲートまたはスイッチングG02F 1/3521)}

G02F 1/3133 ・・・・・{半導体化している材料でできている光導波路}

G02F 1/3134 ・・・・・{電気導波路構造の高周波電磁波構成素子により制御される}

G02F 1/3136 ・・・・{光干渉スイッチ・タイプの}

G02F 1/3137 ・・・・｛交差することまたは分岐導波管については、例えばX-スイッチおよびY-接合}

G02F 1/3138 ・・・・・{半導体化している材料でできている光導波路}

G02F 1/315 ・・・制御内面反射の使用に基づいて

G02F 1/33 ・・音響光学屈折装置{(回路または制御配置したがってG02F 1/113)}

G02F 1/332 ・・・｛同じ水晶の表層上の複数のトランスデューサから成ること、例えばマルチチャネル・ブラッグセル}

G02F 1/335 ・・・光学導波路構造を有する

G02F 1/35 ・非線形光学(光学双安定素子G02F 3/02；刺激されたブリュアンまたはラマン効果を使用しているレーザーH01S 3/30)

G02F 1/3501 ・・｛非線形光デバイスの構造上の配置、例えば非線形結晶の形状(電気光学装置の構造上の配置G02F 1/0305)}

G02F 1/3511 ・・{光の自己集束または自己捕獲；光により誘発された複屈折；誘発されたオプティカルカー効果(電気光学結晶のphotorefractiveな効果G02F 1/0338, G02F 1/0541、セラミックのG02F 1/0558；光光学変調G02F 1/0126；光光学屈折G02F 1/293)}

G02F 1/3513 ・・・{ソリトン普及}

G02F 1/3515 ・・｛全て光学変調、ゲート、スイッチング、例えば他の光線による光線の制御(G02F 1/353, G02F 1/37, G02F 1/39 優位をとる)}

G02F 1/3517 ・・・{干渉計を使用すること}

G02F 1/3519 ・・・・｛サニャク・タイプの中で、すなわち非線形光学ループ鏡(NOLM)}

G02F 1/3521 ・・・{指向性カプラを使用すること}

G02F 1/3523 ・・｛光によって、変化している非線形吸収例えば脱色(漂白可能なメディアを使用しているレーザーＱスイッチングH01S 3/113)}

G02F 1/3525 ・・{光学損害}

G02F 1/3526 ・・{2-光子排出または吸収プロセスを使用すること(ラマン効果H01S 3/30)}

G02F 1/353 ・・｛頻度転換、すなわちそこにおいて、入射光ビームのそれらと異なる頻度構成素子を有する光線は、発生する(第2の高調波発生G02F 1/37；光学パラメータの生成または増幅G02F 1/39；調整された光の変調を移すことG02F 2/004；他のレーザーによるレーザーの光励起H01S 3/094；レーザキャビティ内部の非線形光デバイスH01S 3/108)}

G02F 1/3532 ・・・｛マルチ色光線を生成する複数の非線形装置の配置、例えばSHGの配列、 SFG、RGB光線を生成するOPO装置}

G02F 1/3534 ・・・｛3-波相互作用、例えば合計-差頻度生成(G02F 1/3532 優位をとる)}

G02F 1/3536 ・・・{4-波相互作用}

G02F 1/3538 ・・・・{光学位相接合のための(H01S 3/10076 優位をとる)}

G02F 1/3544 ・・・{技術にマッチしている特定の位相}

G02F 1/355 ・・使用する材料によって、特徴付けられる

G02F 1/3551 ・・・{結晶}

G02F 1/3553 ・・・・{公式MTiOYO4を有する、そこにおいて、M=K、 Rb、 TI、 NH4 またはCsおよびY=P、または、として、例えば、 KTP}

G02F 1/3555 ・・・{眼鏡}

G02F 1/3556 ・・・｛半導体材料、例えば量子ウェル}

G02F 1/3558 ・・・｛材料を棒で支えた、例えば定期的なポーリングを有する、領域の構成は、構造を逆にした、例えばquasi-phase-matchingするための(QPM)}

G02F 1/361 ・・・有機材料

G02F 1/3611 ・・・・{上記は、窒素を含む}

G02F 1/3612 ・・・・・{ヘテロ原子としてのNを有する複素環}

G02F 1/3613 ・・・・{上記は、硫黄を含む}

G02F 1/3614 ・・・・・{ヘテロ原子としてのSを有する複素環}

G02F 1/3615 ・・・・{上記は、重合体を含む}

G02F 1/3616 ・・・・・{メイン・チェーンの非線形光学群を有する}

G02F 1/3617 ・・・・・{サイドチェーンの非線形光学群を有する}

G02F 1/3618 ・・・・{Langmuir Blodgett Films}

G02F 1/3619 ・・・・{有機金属化合物合成物}

G02F 1/365 ・・光学導波路構造の(G02F 1/377, {G02F 1/395}優位をとる)

G02F 1/37 ・・第2の高調波発生のための{(G02F 1/3532 優位をとる)}

G02F 1/377 ・・・光学導波路構造の

G02F 1/3775 ・・・・｛周期構造については、例えば領域逆転、quasi-phase-matchingするための(QPM) (G02F 1/383 優位をとる)}

G02F 1/383 ・・・・光ファイバ・タイプの

G02F 1/39 ・・光のパラメータの生成または増幅のための、赤外線であるか紫外線波({G02F 1/3532 優位をとる；}電気パラメトリック増幅器H03F 7/00)

G02F 1/395 ・・・{光導波路の}

G02F 1/397 ・・・｛干渉パターンを含むことを混合している波による光の増幅、例えばphotorefractiveな材料を使用すること}

G02F 2/00 光を復調すること；調整された光の変調を移すこと；頻度光で変化している(G02F 1/35 優位をとる；光電に検出することまたは測定装置G01J, H01J 40/00, H01L 31/00レーザー配置を復調する｛例えばスイッチング、ゲート}H01S 3/10；調整された電磁気波の一般に変調の復調または移転H03D 9/00)

G02F 2/002 ・{光学混合を使用すること(homodyne、ヘテロダイン・システムH04B 10/148)}

G02F 2/004 ・｛第2の波長の第2の光学的搬送装置に、すなわち情報を第1の波長の1人の光学保菌者から移して、調整された光の変調を移す例えば全て光学的波長コンバータ}

G02F 2/02 ・頻度光で変化している、例えば量子カウンタによって(発光の材料C09K 11/00)

G02F 3/00 光学論理素子({光学コンピューティングG06E}；能動素子として光電子装置を使用している電気パルスジェネレータH03K 3/42；光電子装置を使用している論理回路H03K 19/14)；光学双安定素子

G02F 3/02 ・光学双安定素子

G02F 3/022 ・・{ベースの続けて電子である、磁力-または音響光学エレメント(G02F 3/028 優位をとる)}

G02F 3/024 ・・｛非線形素子に基づく例えば非直線ファブリー-ペロー空腔(G02F 3/028 優位をとる)}

G02F 3/026 ・・{レーザー効果に基づいて}

G02F 3/028 ・・{自己電気光学効果装置に基づいて(SEED)}

G02F 7/00 光学アナログ/デジタルコンバータ

G02F 2001/00 強度、色、位相、分極化または独立光源から到着している光の方向の制御のための装置または配置、例えばスイッチング、ゲート、または変調すること；非線形光学(色または透光性の変更を使用している温度計G01K 11/12；蛍光の変化を使用することG01K 11/32；光導体装置G02B 6/00；光源から独立している制御照明用の可動であるか変形可能な素子を使用している光デバイスまたは準備G02B 26/00；光の一般に制御G05D 25/00；可視信号を送っているシステムG08B 5/00；選択による可変的な情報または個々の素子の組合せのための準備を示すことG09F 9/00；CRT以外の視覚インジケータのための制御準備または回路G09G 3/00；光源の制御H01S 3/10, H05B 33/08, H05B 35/00 to H05B 43/00； {光発色性フィルタG02B 5/23；光学論理素子G02F 3/00})

G02F 2001/01 ・強度の制御のための、位相、分極化または色(G02F 1/29, G02F 1/35 優位をとる；素子に極性を与えることそれ自体G02B 5/30；静的記憶装置当然G11C；シャッタ動作によって、光弁として作用しているイメージ管スクリーンH01J 29/12；変色により行っているこの種のスクリーンH01J 29/14｛テレビ用の投影配置は、再生を撮像する、例えばeidophorを使用することH04N 5/74；光による記録G11B 7/00 to G11B 11/00})

G02F 2001/011 ・・{光導波路の(G02F 1/0134, G02F 1/01708, G02F 1/025, G02F 1/035, G02F 1/0508, G02F 1/0553, G02F 1/065, G02F 1/073, G02F 1/095, G02F 1/125, G02F 1/1326, G02F 1/225 優位をとる；光導波路一般にG02B 6/00)}

G02F 2001/0113 ・・・ガラスでできている、例えば二酸化ケイ素に拠点を置く光導波路

G02F 2001/0136 ・・｛分極化の制御のために、例えば分極化の状態(SOP)制御、急いでいる分極化、TE-TMモード転換または分離(G02F 1/0353 優位をとる)}

G02F 2001/0139 ・・・急いでいる分極化；Depolarisers

G02F 2001/0142 ・・・TE-TMモード転換

G02F 2001/0144 ・・・TE-TMモード分離

G02F 2001/015 ・・少なくとも一つの潜在的ジャンプ・バリアを有する半導体素子に基づいて、例えば PN、ピン接合(G02F 1/03 優位をとる)

G02F 2001/0151 ・・・屈折率を調整すること

G02F 2001/0152 ・・・・自由なキャリア効果によって(プラズマ)

G02F 2001/0153 ・・・・電子屈折によって(クラーマース-クレーニヒ関係)

G02F 2001/0154 ・・・・電気光学効果によって(LEO=Pockels、 QEO=Kerr)

G02F 2001/0155 ・・・光学吸収を調整すること

G02F 2001/0156 ・・・・自由なキャリア吸収によって

G02F 2001/0157 ・・・・電子吸収効果によって(FK、スターク、 QCSE)

G02F 2001/0158 ・・・・・吸収バンドのブルーシフトを有する

G02F 2001/0159 ・・・・・吸収バンドのレッドシフトを有する

G02F 2001/017 ・・・周期的であるか類似した周期的な潜在的バリエーションを有する構造、例えば超格子、量子ウェル

G02F 2001/01725 ・・・・｛非矩形の量子井戸構造については、例えば連結される、等級分けされる、段階状の量子ウェル}

G02F 2001/01733 ・・・・・被結合であるか二重量子ウェル

G02F 2001/01741 ・・・・・・非対称に被結合であるか二重量子ウェル

G02F 2001/0175 ・・・・・空間的に様々な井戸側面を有する、例えば等級分けされる、段階状の量子ウェル

G02F 2001/01758 ・・・・・・非対称の井戸側面を有する、例えば非対称に段階状の量子ウェル

G02F 2001/01766 ・・・・緊張した超格子または量子ウェル装置

G02F 2001/01775 ・・・・インターサブバンド移行をよい1つ（例えばe1-）に関係させること>

G02F 2001/01783 ・・・・量子導線

G02F 2001/01791 ・・・・量子箱または点

G02F 2001/09 ・・光磁気素子に基づいて、例えばファラデー効果を呈すること

G02F 2001/094 ・・・磁気phoreticな効果に基づいて

G02F 2001/13 ・・液晶を主成分として、例えば一つの液晶ディスプレイ細胞(液晶材C09K 19/00)

G02F 2001/1316 ・・・清掃方法または製造プロセスの間の液晶セル構成素子の清掃一部分のための材料

G02F 2001/133 ・・・構造上の配置；液晶セルの動作；回路準備(装置または液体中で水晶素子の制御のための回路{部分は、示す、または、}マトリックス、構造的にこれらの素子と関連しない、 {それぞれG09G 3/18 そして、}G09G 3/36)

G02F 2001/13306 ・・・・{回路配置または一つの液晶セルの制御のための駆動方法(G02F 1/132, G02F 1/133382 優位をとる)}

G02F 2001/13312 ・・・・・フィードバックのための光センサを備えた回路でない

G02F 2001/13324 ・・・・・太陽電池から成る回路

G02F 2001/1333 ・・・・構造上の配置； {製造方法}(G02F 1/135, G02F 1/136 優位をとる)

G02F 2001/133302 ・・・・・硬質基板、例えば無機である

G02F 2001/133308 ・・・・・｛液晶表示パネル即時の支持構造物、例えば前部で後ろのフレームまたは表縁}

G02F 2001/133311 ・・・・・・環境保護、例えば塵、湿度

G02F 2001/133314 ・・・・・・後ろのフレーム

G02F 2001/133317 ・・・・・・中間フレーム、例えばバックライト・ハウジングおよび前部フレーム間の

G02F 2001/13332 ・・・・・・前部フレーム

G02F 2001/133322 ・・・・・・機械的に案内することおよび液晶表示パネルの配置は、構成素子を支持する

G02F 2001/133325 ・・・・・・組立ての方法(G02F 2201/465 優位をとる)

G02F 2001/133328 ・・・・・・分割されたフレーム

G02F 2001/133331 ・・・・・・カバーガラス

G02F 2001/133334 ・・・・・・電磁シールド

G02F 2001/133337 ・・・・・層を予防しているかまたは吸収しているイオン-拡散

G02F 2001/133342 ・・・・・二重横のディスプレイのための

G02F 2001/133354 ・・・・・下地を整列配置するかまたは組み立てるための配置

G02F 2001/133357 ・・・・・平坦化層

G02F 2001/133368 ・・・・・異なる特徴を有する2つの下地を有する細胞、例えばhicknessまたは材料

G02F 2001/133374 ・・・・・表示永久標識またはマークのための

G02F 2001/133388 ・・・・・表示領域および周辺領域の構造上の違い

G02F 2001/133391 ・・・・・再分割されたディスプレイ用の構造上の装置

G02F 2001/133394 ・・・・・細胞と関連する圧電素子

G02F 2001/133397 ・・・・・残像またはイメージ-くっつきを抑制するための

G02F 2001/1334 ・・・・・ポリマー分散液晶を主成分として、例えばマイクロカプセルに入れられた液晶{(組成物C09K 19/544)}

G02F 2001/13345 ・・・・・・ネットワークまたは三次元ゲル

G02F 2001/13347 ・・・・・・逆のモード、すなわちon-stateなもののオフ状態および散乱において、クリアになる

G02F 2001/1335 ・・・・・光デバイスの構造上の関連、例えば偏光板、反射器または明らかにする装置、細胞を有する

G02F 2001/133504 ・・・・・・{広まること、散乱、回析している素子(装置を照らすことに関連するG02F 1/13357)}

G02F 2001/133507 ・・・・・・・輝度強化フィルム

G02F 2001/133509 ・・・・・・｛フィルタ、例えば遮光マスク(光学フィルタG02B 5/20)}

G02F 2001/133514 ・・・・・・・{波長フィルタ(発光の素子G02F 1/13357L)}

G02F 2001/133519 ・・・・・・・・overcoatingすること

G02F 2001/133521 ・・・・・・・・干渉フィルタ

G02F 2001/133528 ・・・・・・{偏光板(偏光板それ自体G02B 5/30)}

G02F 2001/133531 ・・・・・・・偏光板またはアナライザ軸の特別な配列

G02F 2001/133538 ・・・・・・・分極化方向の空間分布を有する

G02F 2001/133541 ・・・・・・・円形の偏光板

G02F 2001/133543 ・・・・・・・コレステロール偏光板

G02F 2001/133545 ・・・・・・・誘電スタック偏光板

G02F 2001/133548 ・・・・・・・導線-格子偏光板

G02F 2001/13355 ・・・・・・・ビームスプリッタに極性を与えること[PBS]

G02F 2001/133553 ・・・・・・{素子を反映すること(装置を照らすことに関連するG02F 1/13357)}

G02F 2001/133555 ・・・・・・・{Transflectors}

G02F 2001/133557 ・・・・・・・・半分-鏡

G02F 2001/13356 ・・・・・・光学エレメントの特定の位置

G02F 2001/133562 ・・・・・・・ビューア側上の

G02F 2001/133565 ・・・・・・・LC素子内部で、すなわち細胞下地間の

G02F 2001/133567 ・・・・・・・裏面上の

G02F 2001/1336 ・・・・・・{装置を照らすこと(一般にF21V；電子時計用の表示装置と関連するG04G 9/0041)}

G02F 2001/133601 ・・・・・・・空間作動中の白やけのための

G02F 2001/133602 ・・・・・・・{直射的なバックライト}

G02F 2001/133606 ・・・・・・・・{上記は、含む特別に構成される広まっている、散乱または軽い制御部材}

G02F 2001/133607 ・・・・・・・・・素子を導いているかまたは屈折させている光を含んでいる軽い制御部材、例えばプリズムまたはレンズ

G02F 2001/133612 ・・・・・・・・電気詳細

G02F 2001/133613 ・・・・・・・・上記は、光源の特定のシーケンスを含む

G02F 2001/133614 ・・・・・・・光は、ホトルミネセンスによって、発生する、例えば蛍光体は、UVまたは青色光によって、照らされる

G02F 2001/133616 ・・・・・・・前部明らかにする装置

G02F 2001/133618 ・・・・・・・環境照明のための

G02F 2001/133621 ・・・・・・・{着色した光を出力すること(G02F 1/133617, G02F 1/133533 優位をとる)}

G02F 2001/133622 ・・・・・・・・色連続した照明

G02F 2001/133623 ・・・・・・・・傾斜した着色した光線

G02F 2001/133624 ・・・・・・・特定のスペクトル放出を有する

G02F 2001/133625 ・・・・・・・電子流灯

G02F 2001/133626 ・・・・・・・照明の2つのモードを提供すること、例えば日-夜

G02F 2001/133627 ・・・・・・・・投影直接の視聴

G02F 2001/133628 ・・・・・・・冷却手段を有する

G02F 2001/13363 ・・・・・・複屈折素子、例えば光学補償のための

G02F 2001/133631 ・・・・・・・遅滞値の空間分布を有する

G02F 2001/133633 ・・・・・・・中間毒力材料を使用すること

G02F 2001/133635 ・・・・・・・多機能コンペンセータ

G02F 2001/133637 ・・・・・・・波長分散によって、特徴づけられる

G02F 2001/133638 ・・・・・・・Waveplates、すなわちラムダの遅滞値を有するプレート/n

G02F 2001/1337 ・・・・・液晶分子の表層により誘発された方位、例えば配置層によって

G02F 2001/133711 ・・・・・・｛有機フィルムによって、例えばポリマーフィルム}

G02F 2001/133715 ・・・・・・・単量体を最初に堆積させることによって

G02F 2001/133726 ・・・・・・・中間毒力材料でできている

G02F 2001/13373 ・・・・・・回位線；逆の傾斜

G02F 2001/133738 ・・・・・・均一な配置のための

G02F 2001/133742 ・・・・・・ホメオトロピック配向のための

G02F 2001/133746 ・・・・・・高いpretilt角度のための、すなわち、>5度

G02F 2001/133749 ・・・・・・低いpretilt角度のための、すなわち、<5度

G02F 2001/133753 ・・・・・・｛方位またはpretiltが同じ表層に曲げる異なる配置については例えばグレースケールまたは改良された視聴角度のための}

G02F 2001/133757 ・・・・・・・異なる配置方位を有する

G02F 2001/133761 ・・・・・・・異なるpretilt角度を有する

G02F 2001/133765 ・・・・・・表面処理なしで

G02F 2001/133769 ・・・・・・上記は、活動から成る、例えばスイッチで切り替え可能な配置層

G02F 2001/133773 ・・・・・・配置材料または処理は、2つの対向する下地のために異なる

G02F 2001/133776 ・・・・・・構造を有するすなわち局所的に配置に影響している起伏

G02F 2001/13378 ・・・・・・｛表層の処置によって、例えばエンボシング、すれること、軽い照射(G02F 1/133711, G02F 1/133734, G02F 1/133753 優位をとる)}

G02F 2001/133792 ・・・・・・・エッチングによって

G02F 2001/133796 ・・・・・・特性を行うことを有する

G02F 2001/1339 ・・・・・ガスケット；スペーサ、 {また、特性を実行することに関するスペーサ(電気線コネクタH01R)}；細胞のシーリング

G02F 2001/13396 ・・・・・・異なるサイズを有するスペーサ

G02F 2001/13398 ・・・・・・材料およびスペーサの特性

G02F 2001/1341 ・・・・・充填材またはセルの閉鎖{(G02F 1/133365, G02F 1/1334 優位をとる)}

G02F 2001/13415 ・・・・・・低下充填材プロセス

G02F 2001/1343 ・・・・・電極{(反射電極G02F 1/133553)}

G02F 2001/134309 ・・・・・・{それらの幾何学的な装置によって、特徴付けられる(G09F 9/302 優位をとる)}

G02F 2001/134318 ・・・・・・・パターン化された対向電極を有する

G02F 2001/134345 ・・・・・・・再分割されたピクセル、例えばグレースケール、冗長

G02F 2001/134354 ・・・・・・・・容量結合されているサブピクセル

G02F 2001/134372 ・・・・・・・対向電極がパターン化されない周辺的な分野スイッチング[FF]のための、例えば平らである

G02F 2001/134381 ・・・・・・・複合型スイッチング・モード、すなわち両方とも平行で下地に対して直角の電界を適用するための

G02F 2001/1345 ・・・・・電極を電池端子に接続している導体

G02F 2001/13456 ・・・・・・表示だけ一方の側の電池端子

G02F 2001/1347 ・・・・・液晶層の配列または1つの光線の最終的な条件が2枚の層以上または細胞の効果の追加によって、成し遂げられる細胞{(液晶弁を有するカラー投影ディスプレイH04N 9/3197)}

G02F 2001/13478 ・・・・・・選択反射に基づいて

G02F 2001/135 ・・・・液晶セルは、構造的にphotoconductingまたは強誘電性層と関連した、いずれが光学的にまたは電気的に多様でありえるか、特性{(G02F 1/133348 優位をとる)}

G02F 2001/1351 ・・・・・光を吸収することまたは障壁

G02F 2001/1352 ・・・・・光を反射している層

G02F 2001/1354 ・・・・・{特定のphotoconductingしている構造または材料を有する}

G02F 2001/1355 ・・・・・・材料またはそれの製造プロセス

G02F 2001/1357 ・・・・・電極構造体

G02F 2001/136 ・・・・構造的に半分を行っている層または下地と関連する液晶セル、例えば集積回路の一部を形成している細胞(G02F 1/135 優位をとる)

G02F 2001/13606 ・・・・・寄生的な静電容量を減らすための手段を有する

G02F 2001/13613 ・・・・・半導体素子は、第1の下地の上に形成されて、その後で、最終的な細胞下地へ移される

G02F 2001/1362 ・・・・・アクティブ・マトリックスは、細胞を対象にした{(G02F 1/134336, G02F 1/134363 優位をとる)}

G02F 2001/136218 ・・・・・・シールド電極

G02F 2001/136222 ・・・・・・アクティブ・マトリックス下地に取り入れられるカラーフィルタ

G02F 2001/136231 ・・・・・・リソグラフィ・ステップの数を減らすための

G02F 2001/136236 ・・・・・・・灰色またはハーフ・トーン・リソグラフィ方法を使用すること

G02F 2001/13624 ・・・・・・{複数のスイッチング素子／ピクセルを有する}

G02F 2001/136245 ・・・・・・・相補的トランジスタを有する

G02F 2001/13625 ・・・・・・マルチ・マスク露出を使用しているパターニング

G02F 2001/136254 ・・・・・・浅割れ目；テスト

G02F 2001/136259 ・・・・・・{修理すること；欠陥}

G02F 2001/136263 ・・・・・・・線欠陥

G02F 2001/136268 ・・・・・・・スイッチ欠陥

G02F 2001/136272 ・・・・・・・補助線

G02F 2001/136277 ・・・・・・｛半導体基板に形をなした例えばシリコン}

G02F 2001/136281 ・・・・・・・伝達する半導体基板を有する

G02F 2001/136286 ・・・・・・｛配線、例えばゲートライン、ドレン管路}

G02F 2001/13629 ・・・・・・・多層wirings

G02F 2001/136295 ・・・・・・・材料；組成物；製造の方法

G02F 2001/1368 ・・・・・・スイッチング素子は、いずれにおいて、3-電極装置であるか{(G02F 1/136277 優位をとる)}

G02F 2001/13685 ・・・・・・・一番上のゲート

G02F 2001/137 ・・・特定の電気-または磁気光学効果によって、特徴付けられる、例えば分野により誘発された相転移、方位効果、客用のホスト相互作用、動散乱

G02F 2001/13706 ・・・・陽誘電異方性を有するLC

G02F 2001/13712 ・・・・負の誘電異方性を有するLC

G02F 2001/13756 ・・・・選択的に光散乱状態を装っている液晶(G02F 1/1334, G02F 1/13718 優位をとる)

G02F 2001/13775 ・・・・重合体は、液晶層を安定させた

G02F 2001/13787 ・・・・複合型配置細胞(G02F 1/1393 優位をとる)

G02F 2001/13793 ・・・・青い位相

G02F 2001/139 ・・・・液晶が透明なままである方位効果に基づいて

G02F 2001/1396 ・・・・・｛ゆがんだ状態および非ゆがんだ状態の間で選択的に制御されている液晶例えばTN-LC細胞(G02F 1/141 優位をとる)}

G02F 2001/1398 ・・・・・・90以下であるねじれ？C

G02F 2001/141 ・・・・・強誘電性の液晶を使用すること

G02F 2001/1412 ・・・・・・Antiferroelectric液晶

G02F 2001/1414 ・・・・・・歪んだ螺旋強誘電体(DHL)

G02F 2001/15 ・・エレクトロクロミック素子に基づいて{(エレクトロクロミック材料C09K 9/00)}

G02F 2001/1502 ・・・添充細胞

G02F 2001/1504 ・・・・無機のエレクトロクロミック層および第2の固体の有機エレクトロクロミック層を有する

G02F 2001/151 ・・・エレクトロクロミック材料は、フェロセン合成物から成る

G02F 2001/1512 ・・・エレクトロクロミック層は、陽極で陰極の合成物の混成から成る

G02F 2001/1515 ・・・エレクトロクロミック材料は、重合体でできている

G02F 2001/1517 ・・・シアン基の合成の合成物を主成分として、例えばベルリン青

G02F 2001/1519 ・・・電解質は、重合体でできている

G02F 2001/153 ・・・構造上の配置

G02F 2001/1533 ・・・・{他に分類されない構造上の特徴}

G02F 2001/1536 ・・・・・追加的な、例えば保護である、細胞内部の層

G02F 2001/155 ・・・・電極

G02F 2001/1552 ・・・・・内側電極、例えば内側電極および支持下地にはさまれているエレクトロクロミック層 ― このグループ、変わる今、すでに、実施によって、作成する前である

G02F 2001/1555 ・・・・・対極

G02F 2001/1557 ・・・・・作用することおよび対極の横の配列による側

G02F 2001/163 ・・・エレクトロクロミック細胞の動作；回路配置

G02F 2001/1635 ・・・・ピクセルは、作動中のスイッチング素子から成る、例えば TFT

G02F 2001/167 ・・電気泳動に基づいて

G02F 2001/1672 ・・・microcupタイプの[N0707

G02F 2001/1674 ・・・上記は、乾燥トナー粒子から成る

G02F 2001/1676 ・・・特定の電極を有する[N0707

G02F 2001/1678 ・・・特定の構成または分子タイプを有する[N0707

G02F 2001/21 ・・干渉によって

G02F 2001/211 ・・・サニャク・タイプ

G02F 2001/212 ・・・マッハ-ツェンダー・タイプ

G02F 2001/213 ・・・ファブリー-ペロー・タイプ

G02F 2001/215 ・・・マイケルソン・タイプ

G02F 2001/217 ・・・複数モード干渉タイプ

G02F 2001/29 ・位置の制御または光線の方向のための、すなわち屈折({光学的結合手段G02B 6/26；optical-mechanicalなスキャン一般にG02B 26/10}；電気的であるか磁気読込みおよび光学読み出しを有する静的ストアG11C；レーザーは、場所を変える手段を提供したそれ、または中で方向それ、レーザ放射は、発されるH01S 3/101)

G02F 2001/291 ・・二次元のアナログの屈折

G02F 2001/294 ・・可変焦点距離装置

G02F 2001/31 ・・デジタル屈折、｛すなわち光学スイッチング}(G02F 1/33 優位をとる)

G02F 2001/311 ・・・複数のスイッチのカスケード配置

G02F 2001/313 ・・・光学導波路構造の

G02F 2001/3132 ・・・・{指向性カプラ・タイプの(全て光学変調、非線形指向性カプラを使用しているゲートまたはスイッチングG02F 1/3521)}

G02F 2001/3135 ・・・・・垂直構造体

G02F 2001/35 ・非線形光学(光学双安定素子G02F 3/02；刺激されたブリュアンまたはラマン効果を使用しているレーザーH01S 3/30)

G02F 2001/3501 ・・｛非線形光デバイスの構造上の配置、例えば非線形結晶の形状(電気光学装置の構造上の配置G02F 1/0305)}

G02F 2001/3503 ・・・光学エレメントの構造上の関連、例えばレンズ、非線形光デバイスを有する

G02F 2001/3505 ・・・コーティング；ハウジング；支持体

G02F 2001/3507 ・・・2つ以上の非線形光デバイスから成る準備

G02F 2001/3509 ・・・形状、例えば端面の形状

G02F 2001/3528 ・・supercontinuumを生じるための

G02F 2001/353 ・・｛頻度転換、すなわちそこにおいて、入射光ビームのそれらと異なる頻度構成素子を有する光線は、発生する(第2の高調波発生G02F 1/37；光学パラメータの生成または増幅G02F 1/39；調整された光の変調を移すことG02F 2/004；他のレーザーによるレーザーの光励起H01S 3/094；レーザキャビティ内部の非線形光デバイスH01S 3/108)}

G02F 2001/354 ・・・第3またはより高い高調波発生

G02F 2001/3542 ・・・マルチ・パス配置（すなわち光に同じ素子による複数の時間を渡す準備）例えば強化空腔を用いて

G02F 2001/3544 ・・・{技術にマッチしている特定の位相}

G02F 2001/3546 ・・・・合っている作動中の位相、例えば電気-またはサーモ視覚チューニングによって

G02F 2001/3548 ・・・・準位相-マッチング（QPM）、例えば間欠的な領域を使用することは、構造を逆にした

G02F 2001/37 ・・第2の高調波発生のための{(G02F 1/3532 優位をとる)}

G02F 2001/372 ・・・出力ビームを均質にするための手段

G02F 2001/374 ・・・チェレンコフ線

G02F 2001/39 ・・光のパラメータの生成または増幅のための、赤外線であるか紫外線波({G02F 1/3532 優位をとる；}電気パラメトリック増幅器H03F 7/00)

G02F 2001/392 ・・・パラメータの増幅

G02F 2002/00 光を復調すること；調整された光の変調を移すこと；頻度光で変化している(G02F 1/35 優位をとる；光電に検出することまたは測定装置G01J, H01J 40/00, H01L 31/00レーザー配置を復調する｛例えばスイッチング、ゲート}H01S 3/10；調整された電磁気波の一般に変調の復調または移転H03D 9/00)

G02F 2002/004 ・｛第2の波長の第2の光学的搬送装置に、すなわち情報を第1の波長の1人の光学保菌者から移して、調整された光の変調を移す例えば全て光学的波長コンバータ}

G02F 2002/006 ・・全て光学波長転換

G02F 2002/008 ・・光電子波長転換、すなわち第1の光学的搬送装置のフォト検出を含むこと

G02F 2201/00 グループの中に提供されない構造上の配置G02F 1/00 to G02F 7/00

G02F 2201/02 ・繊維

G02F 2201/04 ・monomode

G02F 2201/05 ・マルチモード

G02F 2201/06 ・統合した導波管

G02F 2201/063 ・・隆起；肋骨；載せられる滑走路

G02F 2201/066 ・・チャネル；埋められる

G02F 2201/07 ・応力緩衝材

G02F 2201/08 ・層を吸収している光

G02F 2201/083 ・・赤外線に吸収すること

G02F 2201/086 ・・UV吸収である

G02F 2201/12 ・電極

G02F 2201/121 ・・共有地または背景

G02F 2201/122 ・・特定のパターンを有する

G02F 2201/123 ・・ピクセル

G02F 2201/124 ・・指間である

G02F 2201/125 ・・デルタ-ベータ

G02F 2201/126 ・・プッシュプル増幅器

G02F 2201/127 ・・進行することは、波立つ

G02F 2201/128 ・・分野形削り

G02F 2201/14 ・非対称である

G02F 2201/15 ・周期的である

G02F 2201/16 ・連続；タンデム機械

G02F 2201/17 ・マルチ・パス配置（すなわち光に同じ素子による複数の時間を渡す準備）例えば強化空腔を用いて

G02F 2201/18 ・平行

G02F 2201/20 ・遅延線

G02F 2201/205 ・・繊維タイプの

G02F 2201/30 ・軋ること

G02F 2201/302 ・・耳触りなカプラ

G02F 2201/305 ・・回折格子

G02F 2201/307 ・・反射する格子、すなわち不快な音を立てているブラッグ

G02F 2201/34 ・反射器

G02F 2201/343 ・・コレステロール液晶反射器

G02F 2201/346 ・・配布される(ブラッグ)反射器

G02F 2201/36 ・気流チャネル、例えば空気の流れを促進している構造上の配置

G02F 2201/38 ・反反射配置

G02F 2201/40 ・口径比を改良するための準備

G02F 2201/42 ・絶縁基体で伝導を提供するための準備

G02F 2201/44 ・異なる電子活動層を結合している準備、例えばエレクトロクロミックである、液晶または電子発光層

G02F 2201/46 ・固定素子

G02F 2201/465 ・・スナップ適合

G02F 2201/48 ・配置を平らにすること

G02F 2201/50 ・保護配置

G02F 2201/501 ・・障壁、例えばイオンの移動に対して

G02F 2201/503 ・・ショックに対する抵抗を向上させている配置

G02F 2201/505 ・・ノイズのように音響反響に対する抵抗を向上させている配置

G02F 2201/506 ・・修理すること、例えば欠陥部品に対する冗長な装置を有する

G02F 2201/508 ・・・修理している偽者、例えば欠陥部品は、それが装置の中で機能することを妨げない状態に持ってこられる

G02F 2201/52 ・RGB幾何学的な配置

G02F 2201/54 ・整経-ねじれを減らすための準備

G02F 2201/56 ・特定の形状を有する下地、例えば非矩形である

G02F 2201/58 ・監視光センサから成る準備

G02F 2202/00 材料および特性

G02F 2202/01 ・ダイポールアンテナ

G02F 2202/02 ・有機材料

G02F 2202/021 ・・低分子量

G02F 2202/022 ・・重合である

G02F 2202/023 ・・・治療可能である

G02F 2202/025 ・・・・thermocurableである

G02F 2202/026 ・・複雑な充電転送

G02F 2202/027 ・・ラングミュア-Blodgett膜

G02F 2202/028 ・・photobleachedされる

G02F 2202/04 ・染料

G02F 2202/043 ・・pleochroicである

G02F 2202/046 ・・蛍光

G02F 2202/06 ・ドーパント

G02F 2202/07 ・ポーリングされる

G02F 2202/08 ・ガラス転移温度

G02F 2202/09 ・無機ガラス

G02F 2202/10 ・半導体

G02F 2202/101 ・・GaXAsおよび合金

G02F 2202/102 ・・InXPおよび合金

G02F 2202/103 ・・a-Si

G02F 2202/104 ・・ポリ-Si

G02F 2202/105 ・・単結晶Si

G02F 2202/106 ・・CdXSeまたはCdXTeおよび合金

G02F 2202/107 ・・ZnXSまたはZnXSeおよび合金

G02F 2202/108 ・・量子ウェル

G02F 2202/12 ・光導電体

G02F 2202/13 ・photorefractiveである

G02F 2202/14 ・光発色性である

G02F 2202/16 ・導通する

G02F 2202/20 ・LiNb03、 LiTa03

G02F 2202/22 ・静電気防止材料または配置

G02F 2202/28 ・接着材または配置

G02F 2202/30 ・メタマテリアル

G02F 2202/32 ・光子クリスタル

G02F 2202/34 ・金属水素化物材料

G02F 2202/36 ・マイクロ、または、ナノ材料

G02F 2202/38 ・ゾルゲル材料

G02F 2202/40 ・特定の複屈折を有する材料、遅滞

G02F 2202/42 ・特定の誘電率を有する材料

G02F 2202/99 ・試験HW

G02F 2203/00 機能特徴

G02F 2203/01 ・伝達する

G02F 2203/02 ・反射する

G02F 2203/023 ・・全反射

G02F 2203/026 ・・希釈であるかfrustatedされた内面反射

G02F 2203/03 ・散乱

G02F 2203/04 ・波長インディペンデント

G02F 2203/05 ・依存している波長

G02F 2203/055 ・・波長ろ過

G02F 2203/06 ・独立している分極化

G02F 2203/07 ・依存している分極化

G02F 2203/09 ・半透過型である

G02F 2203/10 ・プラスモン

G02F 2203/11 ・赤外放射を含むこと

G02F 2203/12 ・空間光変調器

G02F 2203/13 ・THZ放射線を含むこと

G02F 2203/15 ・反響効果を含むこと、例えば共振して強化された相互作用

G02F 2203/16 ・回転分極化効果を含むこと

G02F 2203/17 ・ソリトンを含むことは、波立つ

G02F 2203/18 ・適応制御光学、例えば波面修正

G02F 2203/19 ・線形にされた変調；高調波ひずみの減少

G02F 2203/20 ・固有の位相差、すなわち光学バイアス、光変調器の；それのプレ・セットのための方法

G02F 2203/21 ・熱不安定性、すなわちDC移動、光変調器の；準備またはそれの減少のための方法

G02F 2203/22 ・回析する

G02F 2203/24 ・操縦している光線

G02F 2203/25 ・光変調器の中で鳴いている頻度；準備またはプレ・セットまたはそれのチューニングのための方法

G02F 2203/255 ・・負の鳴き声

G02F 2203/26 ・パルス整形；装置または方法したがって

G02F 2203/28 ・焦点に集まるかまたはdefocussingすること

G02F 2203/30 ・グレースケール

G02F 2203/34 ・色モザイクを用いずにカラー・ディスプレイは、濾過される

G02F 2203/48 ・可変減衰器

G02F 2203/50 ・位相のみの変調

G02F 2203/52 ・光学リミタ

G02F 2203/54 ・光学パルストレイン(馬ぐし)シンセサイザ

G02F 2203/56 ・頻度馬ぐしシンセサイザ

G02F 2203/58 ・マルチ波長、例えば複数の波長の装置の動作

G02F 2203/585 ・・加わる/低下装置

G02F 2203/60 ・独立している温度

G02F 2203/62 ・それによって、スイッチで切り替え可能な装置通常スイッチで切り替え可能でない素子

G02F 2203/64 ・通常黒い表示、すなわち黒いオフ状態

G02F 2203/66 ・通常雪の展示会、すなわち白いオフ状態

G02F 2203/68 ・緑の表示、例えばリサイクル、有害物質の減少

G02F 2203/69 ・準備または装置を試験するかまたは調整する方法

G02F 2203/70 ・半導体光増幅器[SOA]カバーされる手段で使われるG02F

G02F 2413/00 計画が関した索引作業G02F 1/13363すなわち複屈折素子に、P例えば光学補償のための、数によって、特徴付けられる、位置、オリエンテーションまたは補償プレートの値

G02F 2413/01 ・1であるプレートの数

G02F 2413/02 ・2であるプレートの数

G02F 2413/03 ・3であるプレートの数

G02F 2413/04 ・プレート4以上の数

G02F 2413/05 ・LC細胞一方の側の一つのプレート

G02F 2413/06 ・LC細胞一方の側の2枚のプレート

G02F 2413/07 ・LC細胞一方の側の全てのプレート

G02F 2413/08 ・特定の光軸方位を有する

G02F 2413/09 ・遅滞値の空間分布を有する

G02F 2413/10 ・楕円体が傾けた屈折率を有する、または傾けられる、LC-層表層Oプレートと関連して

G02F 2413/105 ・・厚み方向の傾向を変化させることに関する、例えば複合型正しい位置に置かれたdiscoticなLC

G02F 2413/11 ・平面方向の屈折インデックスNxと異なる素子面と直角をなす屈折率Nz Ny、例えばCプレート

G02F 2413/12 ・二軸コンペンセータ

G02F 2413/13 ・陽birefingence

G02F 2413/14 ・負のbirefingence

G02F 2413/15 ・ねじられた方位を有する、例えば上記は、螺旋状に正しい位置に置かれた液晶材分子または複数のゆがんだ複屈折の副層から成る