H05H プラズマ技術(イオンビーム管H01J27/00;電磁流体発電機H02K44/08;プラズマの発生を含むX線の発生H05G2/00);加速された荷電粒子のまたは中性子の発生(放射線源から中性子を得るものG21,例.G21BG21CG21G);中性分子または原子ビームの発生または加速(原子時計G04F5/14;誘導放出を用いる装置H01S;分子,原子,または原子より小さい粒子のエネルギーレベルによって決められた基準周波数との比較による周波数調整H03L7/26) WebFI FI記号=2010年8月版
  <注>(1)このサブクラスは,以下のものを包含する:
  (a)プラズマの発生または取扱い;
  (b)サブクラスH01Jに含まれない装置であって,電子,イオンビームまたは中性粒子を高エネルギーに加速する装置;
  (c)中性粒子ビームを発生させるための装置;[3]
  (d)(a),(b),または(c)のためのターゲット[3]
  (2)サブクラスG21Kに注意すること。[3]
  <索引>プラズマ技術 1/00
  中性粒子ビームの発生と加速 3/00
  核反応を起すためのターゲット 6/00
  粒子加速器
  直流電圧型加速器;単一パルスを用いる加速器 5/00
  線型;磁気誘導型;磁気共振型 9/0011/0013/00
  その他 15/00
  細部 7/00

H05H 1/00 プラズマの生成;プラズマの取扱い(熱核融合炉へのプラズマ技術の応用G21B1/00
H05H 1/00, A プラズマ診断,計測に関するもの
H05H 1/00, Z その他のもの
H05H 1/02 ・電界または磁界あるいはそれらによってプラズマを閉じ込めるための装置;プラズマを加熱するための装置(電子光学H01J
H05H 1/03 ・・静電界を用いるもの[3]
H05H 1/04 ・・プラズマ中の放電によって発生する磁界を用いるもの
H05H 1/06 ・・・直線ピンチプラズマ発生装置
H05H 1/08 ・・・誘導ピンチ(θピンチ)プラズマ発生装置
H05H 1/10 ・・磁界のみを用いるもの
H05H 1/11 ・・・カスプ配位を用いるもの(1/14が優先)[3]
H05H 1/12 ・・・閉ループ形状の容器を用いるもの,例.ステラレイタ
H05H 1/14 ・・・容器が直線状で磁気鏡をもつもの
H05H 1/16 ・・電界と磁界を用いるもの
H05H 1/18 ・・・超高周波,例.マイクロ波領域,の振動電界および磁界を用いるもの
H05H 1/20 ・・オーム加熱
H05H 1/22 ・・入射加熱のためのもの
H05H 1/24 ・プラズマの発生[2]
H05H 1/26 ・・プラズマトーチ[2]
H05H 1/28 ・・・冷却装置[3]
H05H 1/30 ・・・電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー(1/28が優先)[3]
H05H 1/32 ・・・アークを用いるもの(1/28が優先)[3]
H05H 1/34 ・・・・細部,例.電極,ノズル[3]
H05H 1/36 ・・・・・回路装置(1/381/40が優先)[3]
H05H 1/38 ・・・・・電極の案内またはセンタリング[3]
H05H 1/40 ・・・・・磁界を用いるもの,例.アークを集束または回転させるためのもの[3]
H05H 1/42 ・・・・プラズマ中に材料,例.粉末,液体,を導入するための設備を有するもの(静電噴霧,噴霧を電気的に荷電するための手段を有する装置B05B5/00)[3]
H05H 1/44 ・・・・1以上のトーチを用いるもの[3]
H05H 1/46 ・・電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー(1/26が優先)[3]
H05H 1/46, A プラズマ処理装置
H05H 1/46, B ・マイクロ波プラズマ
H05H 1/46, C ・・サイクロトロン共鳴(ECR,ICR)を利用するもの 
H05H 1/46, L ・高周波コイル型
H05H 1/46, M ・平行平板型
H05H 1/46, R 電気回路
H05H 1/46, Z その他のもの
H05H 1/48 ・・アークを用いるもの(1/26が優先)[3]
H05H 1/50 ・・・そして磁界を用いるもの,例.アークを集束または回転させるためのもの[3]
H05H 1/52 ・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの(1/26が優先;スパークギャップ一般H01T)[3]
H05H 1/54 ・プラズマの加速[3]

H05H 3/00 中性粒子ビーム,例.分子または原子ビームの発生または加速[3]
H05H 3/02 ・分子ビームまたは原子ビームの発生,例.共振ビーム発生(ガスメーザH01S1/06)[3]
H05H 3/04 ・電磁波圧力による加速[3]
H05H 3/06 ・中性子ビームを発生するもの(核反応を起こすためのターゲット6/00;中性子源G21G4/02)[5]

H05H 5/00 直流電圧型加速器;単一パルスを用いる加速器(3/06が優先)[5]
H05H 5/02 ・細部(核反応を起こすためのターゲット6/00)[3]
H05H 5/02, A 電源装置
H05H 5/02, B 付属装置
H05H 5/02, C ビーム電流制御
H05H 5/02, Z その他のもの
H05H 5/03 ・・加速管(容器表面に改良されたポテンシャル分布を有する放電管のうつわまたは容器H01J5/06;うつわまたは容器に組み合わされたX線管の遮へいH01J35/16)[4]
H05H 5/04 ・静電発電機により,例.バンデグラフ発電機により,加速されるもの[4]
H05H 5/06 ・タンデム型加速器;多段型加速器
H05H 5/08 ・昇圧トランス,例.共振トランス,を使用する粒子加速器[4]

H05H 6/00 核反応を起こすためのターゲット(照射されるターゲットまたは物体の支持具G21K5/08)[3]

H05H 7/00 グループ9/00から13/00によって包含される型の装置の細部(核反応を起こすためのターゲット6/00)[3]
H05H 7/02 ・高周波エネルギを供給するための回路および方式(高周波発生器H03B
H05H 7/04 ・磁石装置;磁石装置の励磁
H05H 7/06 ・2ビーム装置;多ビーム装置
H05H 7/08 ・粒子を軌道に入射させるための装置
H05H 7/10 ・粒子を軌道から放出させるための装置
H05H 7/12 ・ビームの最終エネルギを変更させる装置
H05H 7/14 ・真空室(5/03が優先)[4]
H05H 7/16 ・・導波管型のもの[4]
H05H 7/18 ・・空胴;共振器[4]
H05H 7/20 ・・・超電導壁を有するもの[4]
H05H 7/22 ・線型加速器の細部,例.ドリフト管(7/02から7/20が優先)[4]

H05H 9/00 線形加速器(11/00が優先)
H05H 9/00, A 線形加速器一般
H05H 9/00, B 加速部構造
H05H 9/00, C 強度・エネルギー制御
H05H 9/00, D 周波数制御
H05H 9/00, E 冷却
H05H 9/00, F 細部
H05H 9/00, Z その他
H05H 9/02 ・進行波型線形加速器
H05H 9/04 ・定在波型線形加速器

H05H 11/00 磁気誘導型加速器,例.ベータトロン
H05H 11/02 ・空心型ベータトロン
H05H 11/04 ・偏倚型ベータトロン

H05H 13/00 磁気共振型加速器;サイクロトロン
H05H 13/02 ・シンクロサイクロトロン,例.FMサイクロトロン
H05H 13/04 ・シンクロトロン
H05H 13/04, B 加速器(蓄積装置)各部の構成に特徴を有するもの
H05H 13/04, C ・空洞、真空容器、真空のための構成(ポンプ・排気系)
H05H 13/04, D ・・高周波空洞
H05H 13/04, E ・磁石装置
H05H 13/04, F ・・ウイグラ、アンジユレータ
H05H 13/04, G ・入出射、入射器、出射器
H05H 13/04, H ・冷却
H05H 13/04, M 制御、計装、測定に特徴を有するもの
H05H 13/04, N ・運転方法、励磁方法
H05H 13/04, P ・周波数同調、チユーナ、結合率
H05H 13/04, Q ・軌道(安定化・変位・波動運動)
H05H 13/04, R ・測定手段、測定方法
H05H 13/04, S 各構成要素の配置、複数の加速器の組み合わせ
H05H 13/04, U 放射光の取扱い、露光のための構成(ミラー、アブソーバ)
H05H 13/04, Z その他のもの
H05H 13/06 ・空心型磁気共振型加速器
H05H 13/08 ・AG磁気共振型加速器
H05H 13/10 ・荷電粒子を最初の加速部に平行な軌道に戻すための1つまたは複数の線型加速部および湾曲磁石または類似のものから成る加速器,例.マイクロトロン[4]

H05H 15/00 荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置[4]
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