G03F フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置（写真植字機Ｂ４１Ｂ；写真用感光材料または処理Ｇ０３Ｃ；エレクトログラフィー，そのための感光層または処理Ｇ０３Ｇ）　WebFI　FI記号=2010年8月版
　　＜注＞このサブクラスにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる：
　　―“感光性”は電磁波に対する感光性のみならず，粒子線に対する感光性も意味する；
　　―“感光性組成物”は感光性物質，例．キノンジアジド，およびもし適用できれば，結合剤または添加剤を包含する；
　　―“感光材料”は感光性組成物，例．フォトレジスト，それら支持体およびもし適用できれば，補助層を包含する。［５］
　　 ＜ファセット＞適用範囲（1／00−1／04）
G03F　　 GCA 半導体装置の製造用
　　 ＜ファセット＞適用範囲（1／00−1／04）
G03F　　 GCB 印刷版製造用

G03F 1/00 フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿の作成（写真製版法一般７／００）［３］
G03F 1/00, A バーコード用
G03F 1/00, B シヤドーマスク用
G03F 1/00, C ＴＶ，ビデオ画像から
G03F 1/00, D パターンの作成
G03F 1/00, E スキヤナーによる作成
G03F 1/00, F ・スキヤナー入力準備
G03F 1/00, G ・倍率測定
G03F 1/00, H ・スキヤナー細部
G03F 1/00, J ・ドラム
G03F 1/00, K ・ドラムへの原稿取付
G03F 1/00, L コンピユータによる画像処理
G03F 1/00, M ・レイアウト処理
G03F 1/00, N ・トリミング処理
G03F 1/00, P 画像変形
G03F 1/00, Q 画像拡大、縮小
G03F 1/00, R エツジ処理
G03F 1/00, S 縁取り
G03F 1/00, T 抜きマスクの作成
G03F 1/00, V 原稿の検査
G03F 1/00, W ・検版
G03F 1/00, X ・ページ配列の検査
G03F 1/00, Y 原稿の修正
G03F 1/00, Z その他のもの
G03F 1/02 ・レリーフ状原稿作成に写真方法を用いるもの
G03F 1/04 ・モンタージュ手法によるもの
G03F 1/06 ・印刷表面からのもの［５］
G03F 1/06, A 手工によるもの
G03F 1/06, B ・感圧材料の利用
G03F 1/06, C ・感熱材料の利用
G03F 1/06, D ・レイアウトテーブル
G03F 1/06, E ・貼り込み用具
G03F 1/06, F ・レイアウトシート
G03F 1/06, G ・貼り込み用素材
G03F 1/06, H ・マスキングフイルム
G03F 1/06, Z その他
G03F 1/08 ・原稿が無機画像層をもつもの，例．クロムマスク（１／１２が優先）［５］
G03F 1/08, A パターンの作成方法
G03F 1/08, B 露光方法に特徴
G03F 1/08, C ・露光機
G03F 1/08, D パターンの配列
G03F 1/08, G 遮光膜に特徴
G03F 1/08, H ・カルコゲン
G03F 1/08, J ・感光性遮光膜
G03F 1/08, K ・複層遮光膜
G03F 1/08, L 遮光膜の製法
G03F 1/08, M マーク
G03F 1/08, N ・位置合せ用
G03F 1/08, P ・解像度用
G03F 1/08, R ・識別用
G03F 1/08, S 原稿の検査
G03F 1/08, T 原稿の修正
G03F 1/08, V ・黒点欠陥
G03F 1/08, W ・白点欠陥
G03F 1/08, X 洗浄
G03F 1/08, Z その他
G03F 1/10 ・着色した有機層を露光および洗い落すことによるもの；高分子パターンを着色することによるもの［５］
G03F 1/12 ・ハロゲン化銀を含む感光材料またはジアゾタイプ感光材料を露光することによるもの［５］
G03F 1/14 ・構造の細部に特徴のある原稿，例．支持体，被覆層，ペリクル枠［５］
G03F 1/14, A 支持体
G03F 1/14, B ・支持体の材質
G03F 1/14, E 保護膜
G03F 1/14, F 反射防止膜
G03F 1/14, G 導電膜
G03F 1/14, J ペリクル
G03F 1/14, K ・ペリクル枠
G03F 1/14, M マスクホルダー，カセツト
G03F 1/14, Z その他
G03F 1/16 ・原稿が開孔をもつもの，例．粒子線リソグラフィー用［５］
G03F 1/16, A Ｘ線用
G03F 1/16, B 光電子用
G03F 1/16, E パターン作成
G03F 1/16, F 原稿の検査
G03F 1/16, G 原稿の修正
G03F 1/16, Z その他

G03F 3/00 色分解；色調の修正（写真的複写装置一般Ｇ０３Ｂ）
G03F 3/00, A 色度標
G03F 3/00, Z その他のもの
G03F 3/02 ・手工修正によるもの
G03F 3/04 ・写真的手段によるもの
G03F 3/06 ・・マスキングによるもの
G03F 3/08 ・光電的手段によるもの
G03F 3/08, A 走査電気信号の処理
G03F 3/08, B ・特色分離
G03F 3/08, Z その他のもの
G03F 3/10 ・分解ネガまたはポジの色または調子のチェック
G03F 3/10, A モニター装置を有するもの
G03F 3/10, B カラープルーフ
G03F 3/10, Z その他のもの

G03F 5/00 スクリーン法；そのためのスクリーン
G03F 5/00, A 走査電気信号の処理
G03F 5/00, B 網点面積率決定
G03F 5/00, Z その他のもの
G03F 5/02 ・投映方法によるもの（カメラＧ０３Ｂ）
G03F 5/04 ・・網掛け効果の変化によるもの
G03F 5/06 ・・絞り効果の変化によるもの
G03F 5/08 ・・平行線スクリーンの使用
G03F 5/10 ・・交差線スクリーンの使用
G03F 5/12 ・・その他のスクリーン，例．砂目スクリーン，の使用
G03F 5/12, A 砂目スクリーンの使用
G03F 5/12, Z その他のもの
G03F 5/14 ・密着法によるもの
G03F 5/16 ・・灰色中間調スクリーンの使用
G03F 5/18 ・・カラー中間調スクリーンの使用
G03F 5/20 ・グラビア印刷用網掛けの使用
G03F 5/22 ・数枚のスクリーンの組合せ法；モアレの除去
G03F 5/24 ・多重露光，例．線写真とスクリーンの組合せ

G03F 7/00 フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置（特別の製造法のためのフォトレジスト構造を用いるもの，関係箇所，例．Ｂ４４Ｃ，Ｈ０１Ｌ，例．Ｈ０１Ｌ２１／００，Ｈ０５Ｋ，を参照）［３，５］
G03F 7/00,501 ・印刷版及びその作成法
G03F 7/00,502 ・・凸版
G03F 7/00,503 ・・平版・オフセツト版
G03F 7/00,504 ・・・水無し平版・水無しオフセツト版
G03F 7/00,505 ・・凹版・グラビア
G03F 7/00,506 ・・・網グラビア
G03F 7/004 ・感光材料（７／１２，７／１４が優先）［５］
G03F 7/004,501 ・・添加剤（７／０７５，７／０８５が優先）
G03F 7/004,502 ・・・安定剤・重合防止剤
G03F 7/004,503 ・・・増感剤（７／０２８が優先）
G03F 7/004,503A 化学増幅用酸発生剤（ドット数修正）
G03F 7/004,503B 化学増幅用塩基発生剤（ドット数修正）
G03F 7/004,503Z その他（ドット数修正）
G03F 7/004,504 ・・・界面活性剤
G03F 7/004,505 ・・・着色剤（７／００４，５０７が優先）
G03F 7/004,506 ・・・・ハレーシヨン防止剤
G03F 7/004,507 ・・・発色剤・変色剤
G03F 7/004,511 ・・用途に特徴を有するもの（７／００，５０１が優先）
G03F 7/004,512 ・・・ドライフイルム用
G03F 7/004,513 ・・・熱転写・圧力転写に用いるもの
G03F 7/004,514 ・・・・マイクロカブセルを用いるもの
G03F 7/004,515 ・・・ネガ・ポジ両方に用いられるもの
G03F 7/004,521 ・・溶解性以外の物性，例．接着性，屈折率，化学的反応性，が変化するもの
G03F 7/004,522 ・・・接着性・粘着性が変化するもの
G03F 7/004,523 ・・・・粉体現像用
G03F 7/004,524 ・・・・剥離現像用
G03F 7/004,531 ・・７／００８〜７／０２７に包合されない感光性低分子化合物，例．芳香族ニトロ化合物（７／００４，５０１，５２１が優先）
G03F 7/008 ・・アジド（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/012 ・・・高分子アジド；高分子添加剤，例．結合剤［５］
G03F 7/012,501 ・・・・高分子アジド
G03F 7/012,511 ・・・・ジエン系ポリマー，例．環化ゴム（５０１が優先）
G03F 7/016 ・・ジアゾニウム塩または化合物（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/016,501 ・・・ポジ型のもの
G03F 7/021 ・・・高分子ジアゾニウム化合物；高分子添加剤，例．結合剤［５］
G03F 7/021,501 ・・・・高分子ジアゾニウム化合物，例．ジアゾ樹脂
G03F 7/021,511 ・・・・ポリビニルアルコール・変性ポリビニルアルコール（５０１が優先）
G03F 7/022 ・・キノンジアジド（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/022,501 ・・・ネガ型のもの，例．Ｐ−キノンジアジド
G03F 7/022,601 ・・・ポジ型の低分子キノンジアジドで、その構造に特徴があるもの
G03F 7/023 ・・・高分子キノンジアジド；高分子添加剤，例．結合剤［５］
G03F 7/023,501 ・・・・高分子キノンジアジド
G03F 7/023,511 ・・・・フエノール樹脂・ノボラツク樹脂（５０１が優先）
G03F 7/025 ・・炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．アセチレン化合物（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/027 ・・炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．エチレン化合物（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/027,501 ・・・アクリロイル基をもつもの（７／０２７，５１１〜５１５が優先）
G03F 7/027,502 ・・・・アクリレート類
G03F 7/027,503 ・・・・アクリルアミド類
G03F 7/027,504 ・・・光二量化基，例．シンナモイル基，をもつもの（７／０２７，５１１〜５１５が優先）
G03F 7/027,511 ・・・プレポリマー
G03F 7/027,512 ・・・・不飽和ポリエステル
G03F 7/027,513 ・・・・不飽和ポリウレタン
G03F 7/027,514 ・・・・不飽和基を有するポリアミド，ポリイミド，その前駆体
G03F 7/027,515 ・・・・不飽和基を有するエポキシ樹脂
G03F 7/028 ・・・増感物質をもつもの，例．光重合開始剤［５］
G03F 7/029 ・・・・無機化合物；オニウム化合物；酸素，窒素または硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物［５］
G03F 7/031 ・・・・グループ７／０２９に包含されない有機化合物［５］
G03F 7/032 ・・・結合剤をもつもの［５］
G03F 7/032,501 ・・・・エポキシ樹脂（７／０２７，５１５が優先）
G03F 7/032,502 ・・・・ポリエステル樹脂（７／０２７，５１２が優先）
G03F 7/033 ・・・・結合剤が炭素―炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの，例．ビニル重合体［５］
G03F 7/035 ・・・・結合剤がポリウレタンであるもの［５］
G03F 7/037 ・・・・結合剤がポリアミドまたはポリイミドであるもの［５］
G03F 7/037,501 ・・・・・ポリイミド及びその前駆体（７／０２７，５１４が優先）
G03F 7/038 ・・不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物（７／０７５が優先；高分子アジド７／０１２；高分子ジアゾニウム化合物７／０２１）［５］
G03F 7/038,501 ・・・側鎖に不飽和基を有するもの
G03F 7/038,502 ・・・・ケイ皮酸系不飽和基を有するもの
G03F 7/038,503 ・・・エポキシ基を有するもの
G03F 7/038,504 ・・・ポリイミド及びその前駆体
G03F 7/038,505 ・・・高エネルギー線ネガ型レジスト
G03F 7/038,601 ・・・化学増幅機構を有するネガ型レジスト
G03F 7/039 ・・光分解可能な高分子化合物，例．ポジ型電子レジスト（７／０７５が優先；高分子キノンジアジド７／０２３）［５］
G03F 7/039,501 ・・・光崩壊・光解重合により低分子量化するもの，例．高エネルギー線ポジ型レジスト
G03F 7/039,601 ・・・化学増幅機構を有するポジ型レジスト
G03F 7/04 ・・クロム酸塩（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/06 ・・銀塩（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/06,501 ・・・ハロゲン化銀を不飽和化合物の重合開始剤とするもの
G03F 7/07 ・・・拡散転写に用いられるもの［５］
G03F 7/075 ・・シリコン含有化合物［５］
G03F 7/075,501 ・・・低分子シリコン化合物，例．シランカツプリング剤
G03F 7/075,511 ・・・感光性高分子シリコン化合物
G03F 7/075,521 ・・・非感光性高分子シリコン化合物
G03F 7/085 ・・接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/09 ・・構造の細部，例．支持体，補助層，に特徴のあるもの（印刷版用支持体一般Ｂ４１Ｎ）［５］
G03F 7/09,501 ・・・支持体
G03F 7/095 ・・・２つ以上の感光層をもつもの（７／０７５が優先）［５］
G03F 7/095,501 ・・・・コントラスト増強層（ＣＥＬ）
G03F 7/095,511 ・・・・ハロゲン化銀感光層をもつもの
G03F 7/105 ・・・可視像を形成するための物質，例．指示薬，をもつもの［５］
G03F 7/105,501 ・・・・金属層・金属化合物層・金属化層
G03F 7/105,502 ・・・・着色剤含有非感光性層
G03F 7/105,503 ・・・・染色又は脱色される非感光性層
G03F 7/105,504 ・・・・受像層，例．発色系の一方を含有する層
G03F 7/11 ・・・被覆層または中間層，例．下塗層をもつもの［５］
G03F 7/11,501 ・・・・表面層，保護層（７／１１５が優先）
G03F 7/11,502 ・・・・非感光性平坦化層・非感光性レジスト層
G03F 7/11,503 ・・・・下塗層・接着層
G03F 7/115 ・・・真空焼付においてスクリーン効果またはより良い密着を得るための手段を有する支持体または層をもつもの［５］
G03F 7/12 ・スクリーン印刷版または類似の印刷版，例．ステンシル，の製造
G03F 7/14 ・コロタイプ印刷版の製造
G03F 7/16 ・塗布法；そのための装置（支持体材料への塗布一般Ｂ０５；写真目的用支持体への感光組成物の塗布Ｇ０３Ｃ１／７４）
G03F 7/16,501 ・・塗布装置
G03F 7/16,502 ・・・回転塗布のためのもの，例．スピンナー
G03F 7/18 ・・カーブした面への塗布
G03F 7/20 ・露光；そのための装置（複製用写真焼付装置Ｇ０３Ｂ２７／００）［４］
G03F 7/20,501 ・・露光エネルギーに特徴のあるもの
G03F 7/20,502 ・・・ｄｅｅｐＵＶ〔遠紫外光〕
G03F 7/20,503 ・・・Ｘ線
G03F 7/20,504 ・・・電子線
G03F 7/20,505 ・・・レーザー光
G03F 7/20,506 ・・・イオンビーム
G03F 7/20,511 ・・印刷版作成のためのもの
G03F 7/20,521 ・・半導体装置作成のためのもの
G03F 7/207 ・・焦点調節手段，例．自動焦点調節手段（位置合わせと焦点調節との組合わせ９／０２；投影焼付装置の自動焦点調節手段Ｇ０３Ｂ２７／３４；焦点調節信号の自動発生のためのシステム一般Ｇ０２Ｂ７／２８）［４］
G03F 7/207, G 印刷版製造用
G03F 7/207, H 半導体装置の製造用
G03F 7/207, Z その他のもの
G03F 7/213 ・・同一表面の異なる位置を同一パターンで同時に露光するもの（７／２０７が優先）［４］
G03F 7/213, G 印刷版製造用
G03F 7/213, H 半導体装置の製造用
G03F 7/213, Z その他のもの
G03F 7/22 ・・同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの（７／２０７が優先）［４］
G03F 7/22, G 印刷版製造用
G03F 7/22, H 半導体装置の製造用
G03F 7/22, Z その他のもの
G03F 7/23 ・・・そのための自動的な手段［４］
G03F 7/23, G 印刷版製造用
G03F 7/23, H 半導体装置の製造用
G03F 7/23, Z その他のもの
G03F 7/24 ・・カーブした表面への露光
G03F 7/24, G 印刷版製造用
G03F 7/24, H 半導体装置の製造用
G03F 7/24, Z その他のもの
G03F 7/26 ・感光材料の処理；そのための装置（７／１２〜７／２４が優先）［３，５］
G03F 7/26,501 ・・感光特性評価，例．感度測定（試験・検査一般Ｇ０１）
G03F 7/26,511 ・・多層レジスト法
G03F 7/26,512 ・・ＣＥＬ（コントラスト増強層）法
G03F 7/26,513 ・・リフトオフ法・オーバハング形状の作成
G03F 7/26,521 ・・除去によらない現像，例．加熱，加圧による画像形成，マイクロカプセルの利用
G03F 7/28 ・・粉体画像を得るためのもの（３／１０が優先）［５］
G03F 7/30 ・・液体手段を用いる画像様除去［５］
G03F 7/30,501 ・・・そのための装置，例．現像装置
G03F 7/30,502 ・・・・スピンナー
G03F 7/32 ・・・そのための液体組成物，例．現像剤［５］
G03F 7/32,501 ・・・・リンス又は水洗のための組成物
G03F 7/34 ・・選択的転写による画像様除去，例．剥離［５］
G03F 7/36 ・・グループ７／３０〜７／３４に包含されない画像様除去，例．ガス流を用いるもの，プラズマを用いるもの［５］
G03F 7/38 ・・画像様除去前の処理，例．予熱［５］
G03F 7/38,501 ・・・露光前の処理
G03F 7/38,511 ・・・露光後の処理
G03F 7/38,512 ・・・・化学物質による処理，例．シリル化，グラフト重合
G03F 7/40 ・・画像様除去後の処理，例．加熱［５］
G03F 7/40,501 ・・・硬膜処理，例．加熱
G03F 7/40,502 ・・・・そのための組成物，例．硬膜剤
G03F 7/40,511 ・・・画像の修正及び修正剤
G03F 7/40,521 ・・・エツチング，染色，転写等の二次的処理
G03F 7/42 ・・剥離またはそのための処理剤［５］

G03F 9/00 原稿，マスク，フレーム，写真シート，表面構造または模様が作成された表面，の位置決めまたは位置合わせ，例．自動的なもの（７／２２が優先；写真マスクの製造１／００；複製用写真焼付装置用のものＧ０３Ｂ２７／００）［４］
G03F 9/00, A 自動位置合わせ手段を有するもの
G03F 9/00, G 印刷版製造用
G03F 9/00, H 半導体装置の製造用
G03F 9/00, Z その他のもの
G03F 9/02 ・自動焦点調節の手段と組合わせたもの（自動焦点調節一般Ｇ０２Ｂ７／０９；焦点調節信号の自動発生のためのシステムＧ０２Ｂ７／２８）［４］
G03F 9/02, G 印刷版製造用
G03F 9/02, H 半導体装置の製造用
G03F 9/02, Z その他のもの
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