C10G 炭化水素油の分解；液体炭化水素混合物の製造，例．分解水添，オリゴメリゼーション，ポリメリゼーションによるもの（分解による水素または合成ガスの製造Ｃ０１Ｂ；炭化水素ガスの分解または熱分解による明確なまたは特定の組成の個々の炭化水素またはその混合物の製造Ｃ０７Ｃ；分解によるコークスの製造Ｃ１０Ｂ）；油頁岩，油砂またはガスからの炭化水素油の回収；主に炭化水素から成る混合物の精製；ナフサのリホーミング；鉱ろう（腐食または鉱皮の抑制一般Ｃ２３Ｆ）［６］ WebFI FI記号=2010年8月版
＜注＞（１）このサブクラスにおいては：
―グループ９／００から４９／００は単一工程に限定される；［３］
―結合されたまたは多段階の工程はグループ５１／００から６９／００に包含される；［３］
―鉱ろうの精製または回収はグループ７３／００に包含される。［３］
（２）このサブクラスにおいては，下記の用語または表現は以下に示す意味で用いる：
―“水素の存在下”または“水素の不存在下”とは，それぞれ，水素が遊離の形でまたは水素発生化合物として添加されるか，または添加されない処理を意味する；［３］
―“水素化処理”とはグループ４５／００またはグループ４７／００で定義される変換工程に対して使用される；［３］
―“炭化水素油”とは炭化水素の混合物，例えばタール油または鉱油を含む。［３］
（３）このサブクラスにおいては，相反する指示がない限り，分類は最後の適切な箇所に付与される。［３］
（４）下記のために酵素または微生物を用いる工程はさらにサブクラスＣ１２Ｓに分類する。［５］
（ｉ）既存の化合物または組成物の遊離，分離または精製
（ｉｉ）繊維の処理または材料の固体表面の洗浄
＜索引＞液体炭化水素混合物の製造 １／００〜５／００，５０／００
炭化水素油の精製 ７／００
分解 ９／００〜１５／００，４７／００
炭化水素油の精製
酸またはアルカリを用いる処理による １７／００，１９／００
溶剤または吸着性固体を用いる抽出による ２１／００，２５／００
水素との反応，酸化または他の化学反応による ２７／００，２９／００，４５／００，４９／００
他の工程 ３１／００，３２／００，３３／００
リホーミング ３５／００，５９／００〜６３／００
多段工程 ５１／００〜６９／００
他の工程 ７０／００，７１／００
鉱ろうの処理 ７３／００
腐食防止 ７５／００
このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項 ９９／００
C10G 1/00 油頁（けつ）岩，油砂，非溶融性固形炭素質原料または類似の原料，例．木材，石炭，からの液体炭化水素混合物の製造（油頁岩，油砂またはその類似物からの油の機械的な取得Ｂ０３Ｂ）
C10G 1/00, A 油頁岩、油砂等の液化
C10G 1/00, B 廃棄物，都市ゴミの液化〔廃ゴム，廃プラスチツクの液化→１／１０〕〔廃棄物の焼却→Ｆ２３Ｇ；熱交換→Ｆ２８；汚泥処理→Ｃ０２Ｆ１１／００；固体物質からのガスの発生→Ｃ１０Ｊ〕
C10G 1/00, C 植物の液化〔←炭素〕
C10G 1/00, D 石炭の液化
C10G 1/00, E ・前処理、スラリーの調製
C10G 1/00, F ・・脱水，乾燥〔スラリーの脱水〕
C10G 1/00, G ・・加熱、予熱
C10G 1/00, H ・液化反応〔蒸留、乾留による液化→１／０２、溶剤抽出→１／０４、水添分解→１／０６〜１／０８〕
C10G 1/00, J ・液化反応生成物の分離精製〔←固液分離，脱灰〕〔←抽出，水添分解等からのもの〕
C10G 1/00, K ・・ＣＦＦＣ法
C10G 1/00, Z その他のもの
C10G 1/02 ・蒸留による製造（油頁岩の分解蒸留Ｃ１０Ｂ５３／０６）
C10G 1/04 ・抽出によるもの
C10G 1/04, A 使用する溶剤に特徴があるもの
C10G 1/04, B ・超臨界ガス抽出
C10G 1/04, C ・水
C10G 1/04, Z その他のもの〔反応装置→１／０６Ｇ〜Ｈ〕
C10G 1/06 ・分解水添によるもの
C10G 1/06, A 溶剤
C10G 1/06, B ・水添溶剤
C10G 1/06, C ・・ＥＤＳ法
C10G 1/06, D 触媒
C10G 1/06, E ・鉄を含有するもの
C10G 1/06, F 還元性ガス
C10G 1/06, G 反応装置〔触媒移動型、沸騰床型反応器→１／０８〕
C10G 1/06, H ・反応器への原料スラリーの圧入、反応生成物の排出
C10G 1/06, Z その他のもの
C10G 1/08 ・・移動触媒によるもの
C10G 1/10 ・ゴムまたはゴム廃物からの製造
C10G 2/00 炭素の酸化物からの組成の不明確な液体炭化水素混合物の製造［５］
C10G 3/00 酸素含有有機原料，例．脂肪油，脂肪酸，からの液体炭化水素混合物の製造（非溶融性固形酸素含有炭素質原料からの製造１／００；明確なまたは特定の組成の個々の炭化水素またはその混合物の製造Ｃ０７Ｃ）
C10G 3/00, B アルコール、エーテルからの液体炭化水素混合物の製造
C10G 3/00, Z その他のもの
C10G 5/00 ガス，例．天然ガス，からの液体炭化水素混合物の回収
C10G 5/02 ・固体吸着剤による回収
C10G 5/04 ・液体吸収剤による回収
C10G 5/06 ・冷却または圧縮による回収
C10G 7/00 炭化水素油の蒸留（一般の蒸留Ｂ０１Ｄ）
C10G 7/02 ・分留によるガスの除去でガソリンをスタビライズするもの
C10G 7/04 ・脱水
C10G 7/06 ・減圧蒸留［３］
C10G 7/08 ・共沸または抽出蒸留（水素の不存在下，選択溶剤を用いた抽出による炭化水素油の精製２１／００）［３］
C10G 7/10 ・蒸留の際の腐食の防止［３］
C10G 7/12 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
水素の不存在下における分解
C10G 9/00 炭化水素油の水素の不存在下における非接触的熱分解
C10G 9/02 ・レトルト中におけるもの
C10G 9/04 ・・レトルト
C10G 9/06 ・加圧蒸留によるもの
C10G 9/08 ・・そのための装置
C10G 9/12 ・・・着あかの除去
C10G 9/14 ・補助装置，例．ディジェスター，ソーキング・ドラム，膨張装置のあるまたはこれらのないパイプまたはコイルによるもの
C10G 9/16 ・・着あかの防止または除去
C10G 9/18 ・・装置
C10G 9/20 ・・・チューブ炉
C10G 9/24 ・電気的手段で加熱するもの
C10G 9/26 ・不連続的に予熱された固定式固体材料，例．通気と運転，によるもの
C10G 9/28 ・予熱された移動する固体材料によるもの
C10G 9/30 ・・“移動床”技術によるもの
C10G 9/32 ・・“流動床”技術によるもの
C10G 9/34 ・不活性の予熱された流体，例．溶融金属または塩，との直接接触によるもの
C10G 9/36 ・・加熱されたガスまたは蒸気との直接接触によるもの
C10G 9/38 ・・・分解される材料の部分燃焼または他の炭化水素の燃焼によって製造されるもの［２］
C10G 9/40 ・熱い燃焼ガス以外の予熱された流体との間接の接触によるもの
C10G 9/42 ・分解される材料を薄い流れまたはスプレーにして連続的に加熱された表面の上にまたはその近くに通すもの
C10G 11/00 炭化水素油の水素の不存在下における接触分解（溶融金属または塩との直接接触による分解９／３４）
C10G 11/02 ・使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G 11/04 ・・酸化物
C10G 11/05 ・・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい［３］
C10G 11/06 ・・硫化物
C10G 11/08 ・・ハロゲン化物
C10G 11/10 ・固定触媒床によるもの
C10G 11/12 ・不連続的に予熱された固定式固体触媒，例．通気と運転，によるもの
C10G 11/14 ・予熱された移動する固体触媒によるもの
C10G 11/16 ・・“移動床”技術によるもの
C10G 11/18 ・・“流動床”技術によるもの
C10G 11/20 ・不活性の加熱されたガスまたは蒸気との直接接触によるもの
C10G 11/22 ・・分解される材料の部分燃焼により製造されるもの
＜見出し終了＞
C10G 15/00 電気的方法，電磁的または機械的振動，粒子の放射または電弧中で過熱されたガスによる炭化水素油の分解
C10G 15/08 ・電気的方法または電磁的または機械的振動によるもの［３］
C10G 15/10 ・粒子の放射によるもの［３］
C10G 15/12 ・電弧，例．プラズマ，中で過熱されたガスによるもの［３］
水素の不存在下における精製
C10G 17/00 酸，酸生成化合物または酸含有液体，例．酸スラッジ，を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G 17/02 ・酸または酸含有液体，例．酸スラッジ，を用いるもの
C10G 17/04 ・・不混和の２相を形成する液―液処理
C10G 17/06 ・・・いおうまたはいおうの酸スラッジから誘導される酸を使用するもの
C10G 17/07 ・・・ハロゲン酸またはハロゲンのオキシ酸を用いるもの（ハロゲンを生成する酸２７／０２）［３］
C10G 17/08 ・酸生成酸化物を用いるもの（選択的溶剤としてＣＯ↓２またはＳＯ↓２を用いる精製２１／０６）
C10G 17/085 ・・発煙硫酸を用いるもの［３］
C10G 17/09 ・酸塩を用いるもの［３］
C10G 17/095 ・“固体酸”，例．担体上に沈積したりん酸，を用いるもの［３］
C10G 17/10 ・使用した精製薬剤の回収
C10G 19/00 アルカリ処理による，水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G 19/02 ・アルカリ性水溶液を用いるもの
C10G 19/04 ・・溶解化剤，例．溶質化剤，を含有する溶液
C10G 19/06 ・・亜鉛酸塩または鉛酸塩によるもの
C10G 19/067 ・溶融したアルカリ物質を用いるもの［３］
C10G 19/073 ・固体のアルカリ物質を用いるもの［３］
C10G 19/08 ・使用した精製薬剤の回収
C10G 21/00 選択溶剤を用いる抽出による，水素の不存在下における炭化水素油の精製（１７／００，１９／００が優先；油の脱ろう７３／０２）
C10G 21/02 ・別々に導入されるまたは除去される２種またはそれ以上の溶剤によるもの
C10G 21/04 ・・少なくとも２種の混和しない溶剤を互いに向流で同時に導入することによるもの
C10G 21/06 ・使用する溶剤によって特徴づけられるもの
C10G 21/08 ・・無機化合物のみ
C10G 21/10 ・・・二酸化硫黄
C10G 21/12 ・・有機化合物のみ
C10G 21/14 ・・・炭化水素
C10G 21/16 ・・・酸素含有化合物
C10G 21/18 ・・・ハロゲン含有化合物
C10G 21/20 ・・・窒素含有化合物
C10G 21/22 ・・・硫黄，セレン，またはテルルを含有する化合物
C10G 21/24 ・・・りん含有化合物
C10G 21/26 ・・・けい素含有化合物
C10G 21/27 ・・・グループ２１／１４〜２１／２６の単一のグループに分類されない有機化合物［３］
C10G 21/28 ・使用ずみ溶剤の回収
C10G 21/30 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
C10G 25/00 固体の収着剤を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製
＜注＞このグループに分類するとき，クロマトグラフィーに関する一般分野の主題事項が関係している限り，グループＢ０１Ｄ１５／０８にも分類する［８］
C10G 25/02 ・イオン交換物質を用いるもの
C10G 25/03 ・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を用いるもの［３］
C10G 25/05 ・・・非炭化水素化合物，例．硫黄化合物，の除去［３］
C10G 25/06 ・移動する収着剤または油中に分散した収着剤を用いるもの
C10G 25/08 ・・“移動床”技術によるもの
C10G 25/09 ・・“流動床”技術によるもの［３］
C10G 25/11 ・・移動する収着剤の存在下における蒸留［３］
C10G 25/12 ・使用ずみ吸着剤の回収
C10G 27/00 酸化による水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G 27/02 ・ハロゲンまたはハロゲン発生化合物によるもの；次亜塩素酸またはその塩
C10G 27/04 ・酸素または酸素発生化合物によるもの
C10G 27/06 ・・アルカリ溶液の存在下に行なうもの
C10G 27/08 ・・塩化銅の存在下に行なうもの
C10G 27/10 ・・金属含有有機錯体，例．キレート，または陽イオン交換樹脂の存在下に行うもの［３］
C10G 27/12 ・・酸素発生化合物，例．過化合物，クロム酸，クロム酸塩を用いるもの（亜鉛酸塩または鉛酸塩１９／０６）［３］
C10G 27/14 ・・オゾン含有ガスを用いるもの［３］
C10G 29/00 他の化学薬品を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G 29/02 ・非金属
C10G 29/04 ・金属，または担体上に沈積した金属
C10G 29/06 ・金属塩，または担体上に沈積した金属塩
C10G 29/08 ・・低原子価における金属を含有するもの
C10G 29/10 ・・硫化物
C10G 29/12 ・・ハロゲン化物［３］
C10G 29/16 ・金属酸化物
C10G 29/20 ・金属原子を含有しない有機化合物
C10G 29/22 ・・唯一のヘテロ原子として酸素を含有するもの
C10G 29/24 ・・・アルデヒドまたはケトン
C10G 29/26 ・・ハロゲン化炭化水素
C10G 29/28 ・・唯一のヘテロ原子としていおうを含有するもの，例．メルカプタン，または唯一のヘテロ原子として硫黄および酸素を含有するもの
C10G 31/00 他に分類されない方法による水素の不存在下における炭化水素油の精製（蒸留によるもの７／００）［２］
C10G 31/06 ・加熱，冷却または圧力処理によるもの
C10G 31/08 ・水で処理するもの
C10G 31/09 ・ろ過によるもの［３］
C10G 31/10 ・遠心力の助けによるもの
C10G 31/11 ・透析によるもの［３］
＜見出し終了＞
C10G 32/00 電気的または磁気的方法，照射または微生物を用いることによる炭化水素油の精製［３］
C10G 32/00, A 微生物による炭化水素油の精製
C10G 32/00, Z その他のもの〔←超音波照射によるもの〕
C10G 32/02 ・電気的または磁気的方法によるもの［３］
C10G 32/02, A 電気的方法
C10G 32/02, B 磁気的方法
C10G 32/02, C 電気的方法と磁気的方法との併用
C10G 32/02, Z その他のもの
C10G 32/04 ・粒子の放射によるもの［３］
C10G 33/00 炭化水素油の脱水または抗乳化（蒸留によるもの７／０４）
C10G 33/02 ・電気的または磁気的方法によるもの
C10G 33/04 ・化学的方法によるもの
C10G 33/06 ・機械的方法によるもの，例．ろ過によるもの
C10G 33/08 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
C10G 35/00 ナフサのリホーミング
＜注＞このグループにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる：
―“リホーミング”とはオクタン価またはその芳香族含量を改良するためのナフサの処理を意味する。［３］
C10G 35/02 ・熱リホーミング
C10G 35/04 ・接触リホーミング
C10G 35/06 ・・使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G 35/085 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 35/09 ・・・・金属の少なくとも１つが白金族金属である２元金属触媒［３］
C10G 35/095 ・・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの［３］
C10G 35/10 ・・移動する触媒を使用するもの
C10G 35/12 ・・・“移動床”技術によるもの
C10G 35/14 ・・・“流動床”技術によるもの
C10G 35/16 ・電気的，電磁的，または機械的振動によるもの；粒子の放射によるもの
C10G 35/22 ・リホーミング操作の開始［３］
C10G 35/24 ・リホーミング操作の制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
水素化処理［３］
C10G 45/00 水素または水素発生化合物を用いる炭化水素油の精製［３］
＜注＞グループ４５／０２，４５／３２，４５／４４または４５／５８の単一のグループに分類されない水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理はグループ４９／００に包含される。［３］
C10G 45/02 ・含有炭化水素の骨格を変えることなく，かつ低沸点炭化水素に分解することなく，ヘテロ原子を除去するためのもの；ハイドロフィニッシング［３］
C10G 45/04 ・・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 45/04, A 形状、表面特性、多孔性に特徴を有するもの
C10G 45/04, B 再生、活性化、硫化処理
C10G 45/04, Z その他のもの
C10G 45/06 ・・・ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/06, A 形状、表面特性、多孔性に特徴を有するもの
C10G 45/06, B 再生、活性化、硫化処理
C10G 45/06, Z その他のもの
C10G 45/08 ・・・・クロム，モリブデン，またはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの［３］
C10G 45/08, A 形状、表面特性、多孔性に特徴を有するもの
C10G 45/08, B 再生、活性化、硫化処理
C10G 45/08, Z その他のもの
C10G 45/10 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/10, A 形状、表面特性、多孔性に特徴を有するもの
C10G 45/10, B 再生、活性化、硫化処理
C10G 45/10, Z その他のもの
C10G 45/12 ・・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの［３］
C10G 45/12, A 形状、表面特性、多孔性に特徴を有するもの
C10G 45/12, B 再生、活性化、硫化処理
C10G 45/12, Z その他のもの
C10G 45/14 ・・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 45/16 ・・・油中に懸濁したもの，例．スラリー［３］
C10G 45/18 ・・・“移動床”技術によるもの［３］
C10G 45/20 ・・・“流動床”技術によるもの［３］
C10G 45/22 ・・油中に溶解または懸濁した水素を用いるもの［３］
C10G 45/24 ・・水素発生化合物を用いるもの［３］
C10G 45/26 ・・・水蒸気または水［３］
C10G 45/28 ・・・有機化合物；オートファイニング［３］
C10G 45/30 ・・・・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 45/32 ・ジオレフィンまたはアセチレン化合物の選択的水添［３］
C10G 45/34 ・・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 45/36 ・・・ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/38 ・・・・クロム，モリブデンまたはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの［３］
C10G 45/40 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/42 ・・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 45/44 ・芳香族炭化水素の水添［３］
C10G 45/46 ・・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 45/48 ・・・ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/50 ・・・・クロム，モリブデンまたはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの［３］
C10G 45/52 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/54 ・・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの［３］
C10G 45/56 ・・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 45/58 ・存在する他の炭化水素を分解することなくある炭化水素成分の骨格構造を変化させるためのもの，例．流動点の低下；ノルマルパラフィンの選択的水素化分解（３２／００が優先；ナフサのオクタン価または芳香族含量の改良または向上３５／００）［３］
C10G 45/60 ・・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 45/62 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 45/64 ・・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの［３］
C10G 45/66 ・・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 45/68 ・・炭化水素油留分の芳香族化（ナフサの芳香族化３５／００）［３］
C10G 45/70 ・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒を用いるもの［３］
C10G 45/72 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
C10G 47/00 低沸点の留分を得るための水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の分解（１５／００が優先；非溶融性固体炭素質または類似物質の分解水添１／０６）［３］
C10G 47/02 ・使用する触媒によって特徴づけられたもの［３］
C10G 47/04 ・・酸化物［３］
C10G 47/06 ・・硫化物［３］
C10G 47/08 ・・ハロゲン化物［３］
C10G 47/10 ・・担体上に沈積した触媒を用いるもの［３］
C10G 47/12 ・・・無機担体［３］
C10G 47/14 ・・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒［３］
C10G 47/16 ・・・・結晶性アルミノけい酸塩坦体［３］
C10G 47/18 ・・・・・白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒［３］
C10G 47/20 ・・・・・他の金属またはそれらの化合物を含有する触媒［３］
C10G 47/22 ・水素の存在下における非接触的分解［３］
C10G 47/24 ・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 47/26 ・・油中に懸濁したもの，例．スラリー［３］
C10G 47/28 ・・“移動床”技術によるもの［３］
C10G 47/30 ・・“流動床”技術によるもの［３］
C10G 47/32 ・水素発生化合物の存在下におけるもの［３］
C10G 47/34 ・・有機化合物，例．水添した炭化水素［３］
C10G 47/36 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
C10G 49/00 グループ４５／０２，４５／３２，４５／４４，４５／５８または４７／００の単一のグループに分類されない水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理［３］
C10G 49/02 ・使用する触媒によって特徴づけられるもの［３］
C10G 49/04 ・・ニッケル，コバルト，クロム，モリブデン，またはタングステン金属，またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 49/06 ・・白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの［３］
C10G 49/08 ・・結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの［３］
C10G 49/10 ・移動する固体粒子を用いるもの［３］
C10G 49/12 ・・油中に懸濁したもの，例．スラリー［３］
C10G 49/14 ・・“移動床”技術によるもの［３］
C10G 49/16 ・・“流動床”技術によるもの［３］
C10G 49/18 ・水素発生化合物，例．アンモニア，水，硫化水素，の存在下に行うもの［３］
C10G 49/20 ・・有機化合物［３］
C10G 49/22 ・流出物の分離［３］
C10G 49/24 ・水素化処理操作の開始［３］
C10G 49/26 ・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
＜見出し終了＞
C10G 50/00 炭素数がより少ない炭化水素からの液体炭化水素混合物の製造，例．オリゴメリゼーションによる（明確なまたは特定の組成の個々の炭化水素またはその混合物の製造Ｃ０７Ｃ）［６］
C10G 50/02 ・潤滑用炭化水素油の［６］
C10G 51/00 多段工程
＜注＞グループ５１／００から６９／００は，その特徴点が各工程間の関係にある結合された処理操作のみを包含する。［３］
C10G 51/00 ２以上の分解工程のみによる水素の不存在下における炭化水素油の処理［３］
C10G 51/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 51/04 ・・熱分解および接触分解工程のみを包含するもの［３］
C10G 51/06 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 53/00 ２以上の精製工程による水素の不存在下における炭化水素油の処理［３］
C10G 53/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 53/04 ・・少なくとも１つの抽出工程を包含するもの［３］
C10G 53/06 ・・・抽出工程のみを包含するもの，例．溶剤処理による脱アスファルトにひき続く芳香族成分の抽出（別々に導入されるまたは引き出される２以上の溶剤を用いる１工程での精製２１／０２）［３］
C10G 53/08 ・・少なくとも１つの収着工程を包含するもの［３］
C10G 53/10 ・・少なくとも１つの酸処理工程を包含するもの［３］
C10G 53/12 ・・少なくとも１つのアルカリ処理工程を包含するもの［３］
C10G 53/14 ・・少なくとも１つの酸化工程を包含するもの［３］
C10G 53/16 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 55/00 少なくとも１つの精製工程と少なくとも１つの分解工程とによる水素の不存在下における炭化水素油の処理［３］
C10G 55/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 55/04 ・・少なくとも１つの熱分解工程を包含するもの［３］
C10G 55/06 ・・少なくとも１つの接触分解工程を包含するもの［３］
C10G 55/08 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 57/00 少なくとも１つの分解工程または精製工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる水素の不存在下における炭化水素油の処理［３］
C10G 57/02 ・重合を伴うもの［３］
C10G 59/00 ２以上のリホーミング工程のみまたは少なくとも１つのリホーミング工程とナフサの沸点範囲を実質的に変化させない少なくとも１つの工程とによるナフサの処理［３］
C10G 59/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 59/04 ・・少なくとも１つの接触的および少なくとも１つの非接触的リホーミング工程を包含するもの［３］
C10G 59/06 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 61/00 少なくとも１つのリホーミング工程と少なくとも１つの水素の不存在下における精製工程とによるナフサの処理［３］
C10G 61/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 61/04 ・・精製工程が抽出であるもの［３］
C10G 61/06 ・・精製工程が収着であるもの［３］
C10G 61/08 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 61/10 ・他の変換工程を包含する工程によるもの［３］
C10G 63/00 少なくとも１つのリホーミング工程と少なくとも１つの他の変換工程とによるナフサの処理（５９／００，６１／００が優先）［３］
C10G 63/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 63/04 ・・少なくとも１つの分解工程を包含するもの［３］
C10G 63/06 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 63/08 ・・少なくとも１つの分解工程を包含するもの［３］
C10G 65/00 ２以上の水素化処理のみによる炭化水素油の処理［３］
C10G 65/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 65/04 ・・精製工程のみを包含するもの［３］
C10G 65/06 ・・・少なくとも１つの工程がジオレフィンの選択的水添であるもの［３］
C10G 65/08 ・・・少なくとも１つの工程が芳香族炭化水素の水添であるもの［３］
C10G 65/10 ・・分解工程のみを包含するもの［３］
C10G 65/12 ・・分解工程および他の水素化処理工程を包含するもの［３］
C10G 65/14 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 65/16 ・・精製工程のみを包含するもの［３］
C10G 65/18 ・・分解工程のみを包含するもの［３］
C10G 67/00 少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの水素の不存在下のみにおける精製工程とによる炭化水素油の処理［３］
C10G 67/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 67/04 ・・水素の不存在下における精製工程として溶剤抽出を包含するもの［３］
C10G 67/06 ・・水素の不存在下における精製工程として収着工程を包含するもの［３］
C10G 67/08 ・・水素の不存在下における精製工程として酸処理を包含するもの［３］
C10G 67/10 ・・水素の不存在下における精製工程としてアルカリ処理を包含するもの［３］
C10G 67/12 ・・水素の不存在下における精製工程として酸化を包含するもの［３］
C10G 67/14 ・・水素の不存在下における少なくとも２つの異なる精製工程を包含するもの［３］
C10G 67/16 ・並行工程のみによるもの［３］
C10G 69/00 少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる炭化水素油の処理（６７／００が優先）［３］
C10G 69/02 ・連続工程のみによるもの［３］
C10G 69/04 ・・少なくとも１つの水素の不存在下における接触分解を包含するもの［３］
C10G 69/06 ・・少なくとも１つの水素の不存在下における熱分解を包含するもの［３］
C10G 69/08 ・・少なくとも１つのナフサのリホーミング工程を包含するもの［３］
C10G 69/10 ・・・高沸点留分のナフサへの水素化分解および得られたナフサのリホーミング［３］
C10G 69/12 ・・少なくとも１つの重合またはアルキル化工程を包含するもの［３］
C10G 69/14 ・並行工程のみによるもの［３］
＜見出し終了＞
C10G 70/00 グループ９／００，１１／００，１５／００，４７／００，５１／００に包含される工程により得られた組成の不明確な通常ガス状の混合物の仕上げ処理加工［５］
C10G 70/02 ・水素添加によるもの［５］
C10G 70/04 ・物理的工程によるもの［５］
C10G 70/06 ・・気体―液体接触によるもの［５］
C10G 71/00 潤滑特性を改善するための炭化水素油または脂肪油の，他に分類されない方法による処理（潤滑組成物Ｃ１０Ｍ）［３］
C10G 71/02 ・ボルトール油化することによる増稠（ボルトール油化による乾性油の化学的改質Ｃ０９Ｆ７／０４）［３］
C10G 73/00 鉱ろう，例．モンタンろう，の回収または精製（本質的にろうを基剤とした組成物Ｃ０８Ｌ９１／００）［３］
C10G 73/02 ・炭化水素油からの石油ろうの回収；炭化水素油の脱ろう［３］
C10G 73/04 ・・ろ過器を使用するもの［３］
C10G 73/06 ・・溶媒を使用するもの［３］
C10G 73/08 ・・・有機化合物［３］
C10G 73/10 ・・・・炭化水素［３］
C10G 73/12 ・・・・酸素含有化合物［３］
C10G 73/14 ・・・・ハロゲン含有化合物［３］
C10G 73/16 ・・・・窒素含有化合物［３］
C10G 73/18 ・・・・いおう，セレンまたはテルルを含有するもの［３］
C10G 73/20 ・・・・りんを含有するもの［３］
C10G 73/22 ・・・・有機化合物の混合物［３］
C10G 73/23 ・・・使用済溶剤の回収［６］
C10G 73/24 ・・付加物の生成によるもの［３］
C10G 73/26 ・・浮遊選別によるもの［３］
C10G 73/28 ・・遠心力によるもの［３］
C10G 73/30 ・・電気的方法によるもの［３］
C10G 73/32 ・・脱ろうの間に冷却する方法［３］
C10G 73/34 ・・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］
C10G 73/36 ・少量の油を含有する他の組成物，濃縮物または残渣からの石油ろうの回収；脱油，発汗［３］
C10G 73/38 ・石油ろうの化学的改質［３］
C10G 73/40 ・ろうまたは改質ろうの物理的処理，例．造粒，分散，乳化，照射［３］
C10G 73/42 ・石油ろうの精製［３］
C10G 73/44 ・・水素または水素発生化合物の存在下で行なうもの［３］
C10G 75/00 炭化水素油の処理または変換用装置における腐食や汚れの防止一般（７／１０，９／１６が優先；腐食または湯あかに対する管の保護Ｆ１６Ｌ５８／００）［６］
C10G 75/02 ・腐食防止剤の添加によるもの［６］
C10G 75/04 ・汚れ止め剤の添加によるもの［６］
C10G 99/00 このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項［８］
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