SBnanoECLA20

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MicroPatent Login Login name Password MicroPatent Manual Login Temporary Identification Number c 1998 MicroPatent Search scope: US Granted Years: 2001-2007 ECLA: Y01N0008 Issue/Publication Date: 2007 20 patents selected (of 142 matches). Table of Contents 1. US7298476 B2 G01N 20071120 LASER MICROTECH L L C Method and system for far-field microscopy to exceeding diffraction-limit resolution 2. US7297933 B2 G01N 20071120 CANON KK Probe, near-field light generation apparatus including probe, exposure apparatus, and exposing method using probe 3. US7297568 B2 H01L 20071120 JAPAN SCIENCE & TECH AGENCY Three-dimensional structural body composed of silicon fine wire, its manufacturing method, and device using same 4. US7289207 B2 G01J 20071030 LOS ALAMOS NAT SECURITY LLC Integrated optical biosensor system (IOBS) 5. US7285440 B2 H01L 20071023 IBM Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors 6. US7291299 B2 B32B 20071106 NAT INST FOR MATERIALS SCIENCE Nanotube, nano thermometer and method for producing the same 7. US7288776 B2 G21G 20071030 IND TECH RES INST Optical head capable of providing a subwavelength beams 8. US7288238 B2 D01F 20071030 UNIV RICE WILLIAM M Single-wall carbon nanotube alewives, process for making, and compositions thereof 9. US7287421 B2 G01R 20071030 SEOUL NAT UNIVERSITY INDUSTRY Semiconductor probe with high resolution resistive tip and method of fabricating the same 10. US7285963 B2 H01P 20071023 SOLID STATE MEASUREMENTS INC Method and system for measurement of dielectric constant of thin films using a near field microwave probe 11. US7285792 B2 G01B 20071023 SII NANOTECHNOLOGY INC Scratch repairing processing method and scanning probe microscope (SPM) used therefor 12. US7268662 B2 H01C 20070911 APPLIED SENSOR RES & DEV CORP Passive SAW-based hydrogen sensor and system 13. US7267939 B2 C12Q 20070911 CLINICAL MICRO SENSORS INC Detection of analytes using reorganization energy 14. US7250115 B2 B31D 20070731 AGILENT TECHNOLOGIES INC Nanopore with resonant tunneling electrodes 15. US7249002 B1 G06F 20070724 KLA TENCOR TECH CORP Direct relative motion measurement for vibration induced noise and drift cancellation 16. US7282157 B2 B29D 20071016 SII NANOTECHNOLOGY INC Method of manufacturing light-propagating probe for near-field microscope 17. US7281419 B2 G01B 20071016 TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF Multifunctional probe array system 18. US7279760 B2 H01L 20071009 CHALMERS INTELLECTUAL PROPERTY Nanotube relay device 19. US7279046 B2 B05C 20071009 NANOINK INC Method and apparatus for aligning patterns on a substrate 20. US7278301 B2 G01B 20071009 KLA TENCOR CORP System for sensing a sample1/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7298476 B2 遠距離音場顕微鏡検査のための方法およびシステム ― 回折-制限解像度を上回ることへのMethod and system for far-field microscopy to exceeding diffraction-limit resolution LASER MICROTECH L L C Inventor(s):Tsai, Hai Lung ; Cheng, Ya Application No. US2005251017A, Filed:20051014 , Published: 20071120 US.Class: 356318 356417 2504581 ECLA: G01N002164P4C Y01N000800 Intl. Class: G01N002164 【抄録】バイオ・サンプル（例えば運転中の電池）は、nanoparticlesの適当な数についてのラベルがついている。各々のnanoparticleは、予め共同フルオロフォア提供者およびアクセプタの制御比率によって、ドーピングしたである。2つのレーザパルスは、バイオ・サンプルに適用される。第1のレーザパルスは、アクセプタの吸収スペクトルのピークの近くで中心波長を有する。第1のレーザパルスの強度は調整される ― FRET飽和が焦点の中心の近くで起こるように。第1のレーザパルスの焦点は、{焦点の中央に最も高いレーザー強度を有する} 回折限られたAiryディスクである。第2のレーザーは、アクセプタの発光スペクトルの、そして、焦点の全体にわたる同一の強度配布を有する中心波長を有する。2つのレーザパルスの後のアクセプタからの蛍光放出は、{回折限られた焦点より小さい} 領域からある。それゆえに∥を超える、回折-制限解像度は、成し遂げられる。 Abstract: The bio-sample (e.g., a live cell) is labeled with a proper number of nanoparticles. Each nanoparticle is pre-co-doped with a controlled ratio of fluorophore donors and acceptors. Two laser pulses are applied to the bio-sample. The first laser pulse has a center wavelength near the peak of absorption spectrum of acceptors. The intensity of first laser pulse is adjusted such that FRET saturation occurs near the center of the focal spot. The focal spot of the first laser pulse is a diffraction-limited Airy disk that has the highest laser intensity in the center of the focal spot. The second laser has a center wavelength in the emission spectrum of acceptors and with a uniform intensity distribution throughout the focal spot. The fluorescence emission from acceptors after two laser pulses is from an area that is smaller than the diffraction-limited focal spot. Hence, a higher than diffraction-limit resolution is achieved. Priority: US US2005251017A 20051014 Related Applications: US2005251017A 20051014 20070096038 Agent/Correspondent(s): Chu, Roger 2/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7297933 B2 調査、調査を含んでいる近距離音場発光装置、露出装置および調査を使用している露出させている方法Probe, near-field light generation apparatus including probe, exposure apparatus, and exposing method using probe CANON KK Inventor(s):Yamada, Tomohiro ; Mizutani, Natsuhiko Application No. US2003440237A, Filed:20030519 , Published: 20071120 US.Class: 25022726 977862 977868 ECLA: G01Q024516 G01N001314 G01Q024020 G01Q0240204 G01Q026000 G11B0007135M G11B000722 Y01N000800 Y01N001000 Intl. Class: G01N001314 G12B002106 G01N001310 G02B002600 G11B0007135 G11B000722 G12B002102 H01J000314 【抄録】{開口から先端で近距離音場光を生成する} 調査は、提供される。先端はlightproof会員でおおわれている{ lightproof会員の内部が形である} 最少、平面形の上部および開口を有する円錐は一番上の平面において、提供される。 Abstract: A probe which generates near-field light from an aperture at the tip is provided. The tip is covered with a lightproof member, at least the interior of the lightproof member is in the shape of a cone having a plane-shaped top, and the aperture is provided in the top plane. Priority: JP JP2002175105A 20020614 US US2003440237A 20030519 3/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7297568 B2 シリコン純粋な導線、その製造方法および同上を使用している装置から成る三次元構造上の体Three-dimensional structural body composed of silicon fine wire, its manufacturing method, and device using same JAPAN SCIENCE & TECH AGENCY Inventor(s):Kawakatsu, Hideki ; Kobayashi, Dai Application No. US2004515334A, Filed:20041202 , Published: 20071120 US.Class: 438052 438753 438701 438947 257E2223 216002 216011 ECLA: G01Q024516 G01Q0240314 G01Q024506 G12B002102M Y01N000800 Intl. Class: G01G000316 H01L0021311 B01J002028 B81B000100 B81C000100 B82B000100 B82B000300 G01K000716 G01L000110 G01N000100 G01N001316 G01R003302 G12B002102 G12B002108 【抄録】非常に信頼性が高いシリコンultrafine導線から成る三次元構造、三次元構造を生産する方法および同じことを含んでいる装置は、提供される。シリコン純粋な導線から成る三次元構造は、命令上の導線(2)を含むナノメートルためにマイクロメートル単結晶材料の結晶化度を利用しているウェットエッチングによって、形をなす。 Abstract: A three-dimensional structure composed of highly-reliable silicon ultrafine wires, a method for producing the three-dimensional structure, and a device including the same are provided. The three-dimensional structure composed of silicon fine wires includes wires (2) on the order of nanometers to micrometers formed by wet etching utilizing the crystallinity of a single-crystal material. Priority: JP JP2002161140A 20020603 JP JP2003151255A 20030528 JP WO2003JP6929A 20030602 US US2004515334A 20041202 PCT Publication Number: 2003102549 Date: 20031211 PCT Application Number: WO2003JP6929A 4/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7289207 B2 統合化光学的バイオセンサ・システム（IOBS）Integrated optical biosensor system (IOBS) LOS ALAMOS NAT SECURITY LLC Inventor(s):Grace, Karen M. ; Sweet, Martin R. ; Goeller, Roy M. ; Morrison, Leland Jean ; Grace, Wynne Kevin ; Kolar, Jerome D. Application No. US2004842750A, Filed:20040511 , Published: 20071030 US.Class: 356318 ECLA: G01N002164H G01N002177B G01N0033543K2 L82T020101T Y01N000400 Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: G01J000330 G01N002164 G01N002177 G01N0033543 【抄録】光学バイオセンサは、第1のエンクロージャぶりの{平面光導波路および軋ることを含む認識面が位置を決めた} 病原体を有するエンクロージャを有する。開口は、病原体認識面の近い近くの位置に調査されるサンプルの挿入のための第1のエンクロージャにおいて、ある。第1のエンクロージャのレーザーは整列配置するための手段およびレーザーを調整するための手段を含むと、その軽い出力を有するレーザーが前記格子の方へ指令した。検出手段は、第1のエンクロージャにおいて、そして、質問の後、軽くて、検出を出力しているレーザーによって、病原体を検出するための病原体認識面を有する光通信において、位置する。電子手段は第1の構内にあって、検出を処理して、検出に関する情報を出力するための検出を受信する。そして、電気電源装置は第1の構内にある ― レーザー、検出手段および電子手段に力を供給するための。 Abstract: An optical biosensor has a first enclosure with a pathogen recognition surface, including a planar optical waveguide and grating located in the first enclosure. An aperture is in the first enclosure for insertion of sample to be investigated to a position in close proximity to the pathogen recognition surface. A laser in the first enclosure includes means for aligning and means for modulating the laser, the laser having its light output directed toward said grating. Detection means are located in the first enclosure and in optical communication with the pathogen recognition surface for detecting pathogens after interrogation by the laser light and outputting the detection. Electronic means is located in the first enclosure and receives the detection for processing the detection and outputting information on the detection, and an electrical power supply is located in the first enclosure for supplying power to the laser, the detection means and the electronic means. Priority: US US2003515071P 20031028 US US2004842750A 20040511 5/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7285440 B2 {有機半導体の性能を向上させる} 有機下層Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors IBM Inventor(s):Dimitrakopoulos, Christos D. ; Kosbar, Laura Louise ; Mascaro, Debra Jane Application No. US2002303618A, Filed:20021125 , Published: 20071023 US.Class: 438099 257E51007 257E51049 438149 ECLA: H01L005105B2B4 H01L005100A2F L82T020101 T01L005105B2B2 T01L005130H4 Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: H01L005140 H01L005130 【抄録】方法 ― {有機膜の分子が非常に命じられて、現在の電荷担体の可動性を最大にするために正しい位置に置かれる} 高性能有機薄膜トランジスタを生じるための。さまざまな基板材料の上の同一の単分子層面はそのように形をなした。そして、{用いることができる ― 広域回路を作製するために} より高性能有機電界効果トランジスタのためのより再生可能で直ちに製造できる方法の結果が材料の範囲を使用した。 Abstract: A process for producing high performance organic thin film transistors in which the molecules in the organic thin film are highly ordered and oriented to maximize the mobility of current charge carriers. The uniform monolayer surface over various substrate materials so formed, result in a more reproducible and readily manufacturable process for higher performance organic field effect transistors that can be used to create large area circuits using a range of materials. Priority: US US2002303618A 20021125 6/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7291299 B2 ナノチューブ、ナノ温度計、そして ― 同じものを生産するための方法∥Nanotube, nano thermometer and method for producing the same NAT INST FOR MATERIALS SCIENCE Inventor(s):Bando, Yoshio ; Gao, Yihua ; Sato, Tadao Application No. US2005230510A, Filed:20050921 , Published: 20071106 US.Class: 264081 977762 977811 977833 977955 ECLA: G01K000508 Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: B32B000700 G01K000556 B82B000100 B82B000300 C01B003102 G01K000502 G01K000508 【抄録】小説ナノ温度計（それが、広い温度範囲の温度測定のために使うことができる）1マイクロメートルのサイズ環境の、そして、方法 ― 同じものを生産するための。ナノ、温度計が連続円柱のガリウム（それは円柱のガリウムの長さ変更によって、環境温度の測定を可能にする）で満たされるカーボン・ナノチューブであって、一様にGa2O3粉およびカーボン粉を混合して、1200の温度範囲でこの混合粉のためのヒートトリートメントを実行することによって、できる～1400inf.不活性ガス流の下のC.。 Abstract: A novel nano thermometer, which can be used for temperature measurement of a wide temperature range, in a micrometer size environment, and a method for producing the same. The nano thermometer is a carbon nanotube filled with a continuous columnar gallium, which enables measurement of environmental temperature by length change of the columnar gallium, and is produced by mixing Ga2O3 powder and carbon powder uniformly, and performing heat treatment for this mixed powder at a temperature range of 1200 to 1400ｰ C. under an inert gas flow. Priority: JP JP200267661A 20020204 US US2003357452A 20030204 US US2005230510A 20050921 7/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7288776 B2 できる光学ヘッドは、放射する ― subwavelengthを提供することでことがOptical head capable of providing a subwavelength beams IND TECH RES INST Inventor(s):Lee, Chih Kung ; Yu, Liang Bin ; Liaw, Jiunn Woei ; Lin, Ding Zheng ; Yeh, Jyi Tyan ; Chiu, Yu Tsung ; Chen, Chun Ti ; Wu, Chyan Chi ; Yeh, Chau Shioung ; Chang, You Chia ; Huang, Kuo Tung ; Chen, Yi Chun ; Wang, Yeong Feng Application No. US2004874236A, Filed:20040624 , Published: 20071030 US.Class: 2504931 2504921 ECLA: G01Q024020 G01N001314 G01Q0240204 G01Q026000 G03F000720T18 S02B002758 S11B0007135M Y01N000800 Y01N001000 Intl. Class: G21G000400 【抄録】本発明は光学ヘッドに単一であるか多数の副波長光線を提供する。そして、それがアリーナ（例えばフォトリソグラフィ、光記憶装置、光学顕微鏡検査）において、使うことができる少し例を挙げれば。本発明は、透明基材、薄膜および副波長表層側面を有する表面構造を含む。入射光線は、透明基材、{副波長開口に沿った表層プラズマ波が薄膜の範囲内で位置を決めた} 形式および最後にre-emitsで表面構造の副波長輪郭を有する空間結合で伝達する。被結合re-emittingしている光線または光線が2、3マイクロメートルのための回折制限のそれより少なく、副波長側面を有する表層から、多くの場合ウエストを維持できるので、この発明がマイクロから変動しているアプリケーションを備えていることができて、または、ナノ、製造、測定学および回折より小さいウエストを有する光線を用いて操作は、制限する。 Abstract: The present invention provides an optical head with a single or multiple sub-wavelength light beams, which can be used in arenas such as photolithography, optical storage, optical microscopy, to name a few. The present invention includes a transparent substrate, a thin film, and a surface structure with sub-wavelength surface profile. The incident light transmits through the transparent substrate, forms a surface plasma wave along the sub-wavelength aperture located within the thin film, and finally re-emits through spatial coupling with the sub-wavelength profile of the surface structure. As the coupled re-emitting light beam or light beams can maintain the waist less than that of the diffraction limit for a few micrometers out of the surface with sub-wavelength profile in many cases, this invention can have applications ranging from micro or nano manufacturing, metrology, and manipulation by using light beams with waist smaller than the diffraction limit. Priority: TW TW2003117422A 20030626 US US2004874236A 20040624 8/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7288238 B2 一つの壁カーボン・ナノチューブおかみ、作成する方法およびそれの組成物Single-wall carbon nanotube alewives, process for making, and compositions thereof UNIV RICE WILLIAM M Inventor(s):Smalley, Richard E. ; Saini, Rajesh Kumar ; Sivarajan, Ramesh ; Hauge, Robert H. ; Davis, Virginia Angelica ; Pasquali, Matteo ; Ericson, Lars Martin ; Kumar, Satish ; Veedu, Sreekumar Thaliyil Application No. US2002187729A, Filed:20020702 , Published: 20071030 US.Class: 4234471 423460 977847 ECLA: C01B003102B D01F001112 Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: D01F000912 C01B003102 D01F001112 【抄録】本発明に、非常に整列配置された一つの壁カーボン・ナノチューブ（SWNT）（同じことを作成する方法およびそれの組成物）のおかみが関係する。本発明は方法を提供する ― カーボンおかみを事実上作成するために。そして、それは離散的で、整列配置された一つの壁カーボン・ナノチューブの集合をacicular-shapedして、同じ名前の大西洋魚に似ている。一つの壁カーボン・ナノチューブおかみは、材料（例えば重合体、セラミック、金属、金属酸化物および液体）において、便利に分散できる。方法は一つの壁カーボン・ナノチューブと100%の硫酸または超酸を混ぜ合わせることを含む ― おかみを準備するための。そして、熱くなって、かきまぜて、ゆっくり水を一つの壁カーボン・ナノチューブ/酸混合にもたらす ― おかみを形成するために。おかみは、回復されることができて、洗われることができて、乾燥できる。一つの壁カーボン・ナノチューブの特性は、おかみにおいて、保持される。 Abstract: The present invention involves alewives of highly aligned single-wall carbon nanotubes (SWNT), process for making the same and compositions thereof. The present invention provides a method for effectively making carbon alewives, which are discrete, acicular-shaped aggregates of aligned single-wall carbon nanotubes and resemble the Atlantic fish of the same name. Single-wall carbon nanotube alewives can be conveniently dispersed in materials such as polymers, ceramics, metals, metal oxides and liquids. The process for preparing the alewives comprises mixing single-wall carbon nanotubes with 100% sulfuric acid or a superacid, heating and stirring, and slowly introducing water into the single-wall carbon nanotube/acid mixture to form the alewives. The alewives can be recovered, washed and dried. The properties of the single-wall carbon nanotubes are retained in the alewives. Priority: US US2001303469P 20010706 US US2001303470P 20010706 US US2001337561P 20011108 US US2001337951P 20011207 US US2002187729A 20020702 9/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7287421 B2 高解像度電気抵抗先端を有する半導体調査および同じことを作る方法Semiconductor probe with high resolution resistive tip and method of fabricating the same SEOUL NAT UNIVERSITY INDUSTRY Inventor(s):Jung, Ju hwan ; Kim, Jun soo ; Shin, Hyung cheol ; Hong, Seung bum Application No. US2006482690A, Filed:20060710 , Published: 20071030 US.Class: 073105 324761 ECLA: G01Q0240306 G01Q0240314 Y01N000800 Intl. Class: G01R003102 【抄録】高解像度先端を有する半導体調査および同じことを作る方法は、提供される。第1の不純物によって、不純物を添加されるカンチレバー、カンチレバーの遠方端から突出していて、極性において、対向する第2の不純物によって、第1の不純物に軽く不純物を添加される電気抵抗凸面部分、半導体調査は、そして、電気抵抗凸面部分の両側に形成されて、第2の不純物によって、重く不純物を添加される第１および第２の電極域を含む。 Abstract: A semiconductor probe with a high-resolution tip and a method of fabricating the same are provided. The semiconductor probe includes: a cantilever doped with a first impurity; a resistive convex portion projecting from an end portion of the cantilever and lightly doped with a second impurity opposite in polarity to the first impurity; and first and second electrode regions formed on either side of the resistive convex portion and heavily doped with the second impurity. Priority: KR KR200581996A 20050903 US US2006482690A 20060710 10/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7285963 B2 近距離音場マイクロ波調査を使用している薄膜の誘電率の測定のための方法およびシステムMethod and system for measurement of dielectric constant of thin films using a near field microwave probe SOLID STATE MEASUREMENTS INC Inventor(s):Talanov, Vladimir V. ; Schwartz, Andrew R. ; Scherz, Andre ; Moreland, Robert L. Application No. US2005101517A, Filed:20050408 , Published: 20071023 US.Class: 324635 324601 324633 ECLA: G01Q024020 G01N001314 G01Q0240204 G01R002726D4P Y01N000800 Intl. Class: H01P000700 G01N001314 G01N002300 G01R002704 G01R002726 G12B002102 【抄録】調査を走査しているマイクロ波近距離音場に基づく測定テクニックは、低kフィルムの誘電率の非接触の測定のために開発される。技術が、破壊しなくて、非侵入性で、気孔および非多孔質誘電体に用いられることが可能である。技術は、複数の較正サンプルのための近距離音場マイクロ波共振器対プローブ先端部およびサンプルの間の距離の反響する頻度シフトの測定に基づく ― 校正曲線を建設するために。検討中のサンプル対先端-サンプル分離のために測定される調査共振周波数シフトは、校正曲線にはめ込まれる ― 検討中のサンプルの誘電率を抽出するために。較正は、線形校正曲線を得ることができるようにする ― 検討中のサンプルの誘電率の摘出を単純化するために。 Abstract: A measurement technique based on a microwave near-field scanning probe is developed for non-contact measurement of dielectric constant of low-k films. The technique is non-destructive, non-invasive and can be used on both porous and non-porous dielectrics. The technique is based on measurement of resonant frequency shift of the near-field microwave resonator for a plurality of calibration samples vs. distance between the probe tip and the sample to construct a calibration curve. Probe resonance frequency shift measured for the sample under study vs. tip-sample separation is fitted into the calibration curve to extract the dielectric constant of the sample under study. The calibration permits obtaining a linear calibration curve in order to simplify the extraction of the dielectric constant of the sample under study. Priority: US US2004560590P 20040409 US US2005101517A 20050408 11/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7285792 B2 処理方法を治療しているかき傷および使用する走査形プローブ顕微鏡（SPM）したがってScratch repairing processing method and scanning probe microscope (SPM) used therefor SII NANOTECHNOLOGY INC Inventor(s):Watanabe, Naoya ; Takaoka, Osamu Application No. US200586812A, Filed:20050321 , Published: 20071023 US.Class: 2504922 250309 3562375 430005 ECLA: G03F000100Z G01N001310 G01Q021514 G01Q021520 G01Q026000 Y01N000800 Intl. Class: G01B000528 G01N001310 A61N000500 G03F000100 G03F000108 G03F000900 G12B002100 G21G000500 H01L0021027 【抄録】処理されるサンプルは、{液体を含む} 処理セル内に配置される。走査形プローブ顕微鏡を使用しているかき傷処理は液体の範囲内で実行される ― サンプルから取り除かれるチップまたは削りくずが液体の範囲内で散乱するために ― サンプルの表層に積もることよりむしろ。処理セルは供給口および吐出ポートを有する ― 新規な液体が細胞の範囲内で供給口でかき傷処理の終了の後で供給されることができるために ― 細胞を掃除するために。このように、サンプルの欠陥部分を処理しているかき傷によって、発生するチップまたは削りくずは、完全に除去されることができる ― サンプルの表層で試料表面に存在している吸着された水の表面張力および／または摩擦によって、生じる帯電にもかかわらず集められずに。 Abstract: A sample to be processed is disposed within a processing cell which contains a liquid. Scratch processing using a scanning probe microscope is performed within the liquid so that chips or shavings removed from the sample scatter within the liquid rather than collecting on the surface of the sample. The processing cell has a supply port and a discharge port so that new liquid can be supplied within the cell through the supply port after the termination of the scratch processing to clean the cell. In this manner, chips or shavings generated by scratch processing a defect portion of the sample can be removed completely without being collected at the surface of a sample despite the surface tension of adsorbed water existing on the sample surface and/or electrostatic charges caused by friction. Priority: JP JP200482214A 20040322 US US200586812A 20050321 12/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7268662 B2 受動的なSAWに基づく水素センサおよびシステムPassive SAW-based hydrogen sensor and system APPLIED SENSOR RES & DEV CORP Inventor(s):Hines, Jacqueline H. ; Solie, Leland P. Application No. US2006335044A, Filed:20060119 , Published: 20070911 US.Class: 338034 0730232 07302401 338028 528025 ECLA: L82T020101T Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: H01C000700 【抄録】検出している水素は、受動的な表層音波（SAW）によって、センサを特徴づけた ― システムがあることを。センサは、自己を有する圧電下地は、最も少なく一部の下地でアレンジされる単分子層を組み立てた ― 恐水症の表層をつくるためにを含む。パラジウムnanocluster薄膜は単分子層に置かれる。そして、指間SAWトランスデューサはRF信号の転換のための圧電下地に、音波およびその逆に配置されている。少なくとも一つの追加的なSAW要素は、また、下地に配置されていて、SAWトランスデューサから間隔を置いて配置される。SAW要素は、SAWトランスデューサからの信号を受信して、応答信号を生じる。応答信号は、パラジウムnanocluster膜によって、パラジウムnanocluster膜の伝導率の変化のために、水素への暴露に修正される。応答信号のこの変化は、質問者で測定されて、{センサが露出した} 水素濃度の尺度を与える。 Abstract: A hydrogen detecting system is characterized by a passive surface acoustic wave (SAW) sensor. The sensor includes a piezoelectric substrate having a self assembled monolayer arranged on at least a portion of the substrate to create a hydrophobic surface. A palladium nanocluster thin film is deposited on the monolayer and an interdigital SAW transducer is disposed upon the piezoelectric substrate for conversion of an RF signal into an acoustic wave and vice versa. At least one additional SAW element is also disposed on the substrate and spaced from the SAW transducer. The SAW element receives a signal from the SAW transducer and produces a response signal. The response signal is modified by the palladium nanocluster film due to a change in conductivity of the palladium nanocluster film upon exposure to hydrogen. This change in the response signal is measured by an interrogator, and yields a measure of the hydrogen concentration to which the sensor was exposed. Priority: US US2005714559P 20050907 US US2006335044A 20060119 13/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 [no drawing] US7267939 B2 再編成エネルギーを使用している分析物の検出Detection of analytes using reorganization energy CLINICAL MICRO SENSORS INC Inventor(s):Meade, Thomas J. Application No. US2005283233A, Filed:20051118 , Published: 20070911 US.Class: 435004 2057775 205778 2057935 435005 435006 4350076 43500771 43500772 4350078 4350079 43500791 43500793 ECLA: G01N0033543K2B L82T020101T Y01N000600 Y01N000800 Intl. Class: C12Q000100 C12Q000168 C12Q000170 G01F000164 G01N003350 G01N003353 G01N0033537 【抄録】本発明は新規な方法に関する。そして、電子の核再編成エネルギー（λ）を使用している分析物の検出のための組成物は方法を移す。 Abstract: The invention relates to novel methods and compositions for the detection of analytes using the nuclear reorganization energy, λ, of an electron transfer process. Priority: US US1997873977A 19970612 US US199896504A 19980612 US US1999417988A 19991013 US US2001841809A 20010424 US US2005283233A 20051118 14/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7250115 B2 反響するトンネル効果電極を有するNanoporeNanopore with resonant tunneling electrodes AGILENT TECHNOLOGIES INC Inventor(s):Barth, Phillip W Application No. US2003462216A, Filed:20030612 , Published: 20070731 US.Class: 216056 20419234 216041 216067 ECLA: G01N002700F1A1 G01N0033483 Y01N000200 Y01N000400 Y01N000800 Intl. Class: B31D000300 B44C000122 C25D001700 G01N0033483 【抄録】本発明は、装置および方法を提供する ― 装置を作成するために ― nanoporeを転位させている生体高分子を検出しておよび／または特徴づけるための。本発明の装置は、第一電極を提供する、第1の絶縁体、第二電極、任意の絶縁体（電圧源） ― 電極の間で電位差を変化させている時間を適用するためのそして、手段 ― 2本の電極の間で派生電流を測定する。方法は、また、開示される ― 装置を作成するための。 Abstract: The present invention provides an apparatus and method for making an apparatus for sensing and/or characterizing a biopolymer translocating a nanopore. The apparatus of the present invention provides a first electrode, a first insulator, a second electrode, a optional insulator, a voltage source for applying a time varying potential difference between the electrodes, and a means of measuring the resulting current between the two electrodes. A method for making the apparatus is also disclosed. Priority: US US2003462216A 20030612 15/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7249002 B1 振動のための直接の相対運動測定は、ノイズおよび移動取消を誘導したDirect relative motion measurement for vibration induced noise and drift cancellation KLA TENCOR TECH CORP Inventor(s):Ben Dov, Yuval ; Weber Grabau, Michael Application No. US2004929260A, Filed:20040830 , Published: 20070724 US.Class: 702195 07300182 073105 073649 702097 702190 702191 ECLA: G01Q021506 G01Q024504 Y01N000800 Intl. Class: G06F001500 G01N001312 G01N001316 G01N001320 【抄録】表層分析装置および機械の振動のための補正および表層分析計測器の移動のための方法は、開示される。{調査および試料表面の間の距離に影響される} 調査は、調査信号を出力する。調査信号は、調査-面距離の変化のために、表層特性およびノイズに関する情報を含む。センサは、調査および試料表面の間で置換を測定する。センサは、調査で測定される表層特性に、かなり反応しない。置換測定は、用いることができる ― 調査信号のノイズを補償するために。 Abstract: A surface analysis apparatus and a method for compensating for mechanical vibrations and drifts in a surface analysis instrument are disclosed. A probe that is sensitive to the distance between the probe and a sample surface provides a probe signal. The probe signal contains information about the surface properties and noise due to changes in the probe-surface distance. A sensor measures a displacement between a probe and the sample surface. The sensor is substantially insensitive to the surface properties measured by the probe. The displacement measurement can be used to compensate for the noise in the probe signal. Priority: US US2004929260A 20040830 16/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7282157 B2 方法 ― 近距離音場顕微鏡用の光を伝播している探測機を製造するMethod of manufacturing light-propagating probe for near-field microscope SII NANOTECHNOLOGY INC Inventor(s):Chiba, Norio ; Muramatsu, Hiroshi ; Iyoki, Masato Application No. US2003692345A, Filed:20031023 , Published: 20071016 US.Class: 216024 216011 216097 ECLA: G01Q024516 G01Q024020 G02B000626B Y01N000800 Y01N001000 Intl. Class: B29D001100 G01B001130 B44C000122 C03C001500 C23F000100 C25F000300 G01N001314 G02B000626 G12B002102 G12B002106 【抄録】ステップ ― 光ファイバの上に形成される鋭くされた断面を有する光を伝播している体を鋭くする、ステップ ― 鋭くされた断面の近くに光を伝播している体でフック形状を作る、金属フィルム・コーティング・ステップ ― 先端部位の平明な始めのセクションを形成するための、ステップ ― レジスト材料を有する平明な冒頭部分、軽いレバー方法のための反射している表層を形成するステップ、フック形の断面から後部まで一部を操作しているばねを被覆している金属フィルムのためのステップを保護する、調査を伝播している光のための製造方法は、そして、ステップ ― 平明な冒頭部分を保護しているレジスト材料を除去するを含む。 Abstract: A manufacturing method for a light propagating probe comprises a step of sharpening a light-propagating body having a sharpened section formed on an optical fiber, a step of forming the light-propagating body into a hook shape close to the sharpened section, a metal film coating step for forming a transparent opening section in a tip section, a step of protecting the transparent opening section with a resist material, a step of forming a reflecting surface for a light lever method, a step for metal film coating a spring operating part to the rear from the hook-shaped section, and a step of removing the resist material protecting the transparent opening section. Priority: JP JP2002326709A 20021111 US US2003692345A 20031023 17/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7281419 B2 多機能配列形探触子システムMultifunctional probe array system TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF Inventor(s):Wang, Xuefeng ; Liu, Chang Application No. US2005234401A, Filed:20050923 , Published: 20071016 US.Class: 073105 250306 ECLA: G01Q024516 G01Q024506 G01Q024514 G01Q026000 Y01N000400 Y01N000800 Intl. Class: G01B000528 【抄録】配列形探触子、ハンドル、第1の調査および第2の調査を含む。第1の探測機は第1のシャンクを備えている。そして、ハンドルおよび第1の先端に接続している、そして、第2の探測機は第2のシャンクを備えている。そして、ハンドルおよび第2の先端に接続している。第1の先端は、第2の先端と異なる材料を含む。配列形探触子は、用いるかもしれない ― 表層について書くために ― 表層を有する第1の先端を接触させることによって、そこにおいて、第1のインクは、第1の先端にある。この書込方法は、以下を更に含むかもしれない：第1の先端を表層から持ち上げること、そして、表層を有する第2の先端を接触させること。 Abstract: A probe array for includes a handle, a first probe and a second probe. The first probe has a first shank, connected to the handle, and a first tip; and the second probe has a second shank, connected to the handle, and second tip. The first tip contains a different material from the second tip. The probe array may be used to write on a surface by contacting the first tip with a surface, where a first ink is on the first tip. This writing method may further include lifting the first tip from the surface and contacting the second tip with the surface. Priority: US US2005719158P 20050921 US US2005234401A 20050923 18/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7279760 B2 ナノチューブ・リレー装置Nanotube relay device CHALMERS INTELLECTUAL PROPERTY Inventor(s):Viefers, Susanne ; Nord, Tomas ; Kinaret, Jari Application No. US2005508288A, Filed:20050627 , Published: 20071009 US.Class: 257415 200181 257418 257E29167 438052 977742 977940 ECLA: G11C001302N B81B000300M2 G11C001156 G11C002300 H01H005900B Y01N000400 Y01N000800 Intl. Class: B82B000100 H01L002986 B81B000300 G11C001156 G11C001302 G11C002300 H01H005900 【抄録】本発明は、ナノチューブ装置（100、600）に関する、縦を有するナノチューブおよび横方向の拡張（少なくともナノチューブの第1の部分を支持するための構造）そして、上記は、第１の手段 ― 第一の方向にその横方向の拡張により定義されるナノチューブに、力を振るうためのを含む。ナノチューブの少なくとも1秒の部分は前記構造のサポートを越えて突き出る。その結果、前記力が特定のレベルを上回るときに、ナノチューブの第二部品はその横方向の拡張の方向に曲がって、それによって、第1の電気回路を閉じる。最適に、第１の手段は電気手段である ― ナノチューブに前記力を振るうための。そして、力がつくられる ― 電圧を手段に印加することによって。 Abstract: The present invention relates to a nanotube device (100, 600), comprising a nanotube with a longitudinal and a lateral extension, a structure for supporting at least a first part of the nanotube, and first means for exerting a force upon the nanotube in a first direction defined by its lateral extension. At least a second part of the nanotube protrudes beyond the support of said structure, so that when said force exceeds a certain level, the second part of the nanotube will flex in the direction of its lateral extension, and thereby close a first electrical circuit. Suitably, the first means for exerting said force upon the nanotube is an electrical means, the force being created by applying a voltage to the means. Priority: SE SE2002868A 20020320 SE WO2002SE853A 20020502 US US2005508288A 20050627 PCT Publication Number: 2003078305 Date: 20030925 PCT Application Number: WO2002SE853A 19/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7279046 B2 下地上の整列配置パターンのための方法と装置Method and apparatus for aligning patterns on a substrate NANOINK INC Inventor(s):Eby, Raymond K. ; Nelson, Michael ; Touzov, Igor Application No. US2003366717A, Filed:20030214 , Published: 20071009 US.Class: 118695 118696 118706 702091 977854 ECLA: G01Q022002 Y01N000800 Intl. Class: B05C001110 G12B002120 【抄録】システムと方法は、以下を含む ― 第2のSPMについての情報を有する第1のSPMについての情報によって、SPMシステムと組み合わせて形成される従来のパターニング位置を整列配置するためのための： {以下を含む} 第1の位置情報を識別すること：第1のSPMについての情報の位置およびSPMサンプル上のサンプル参照場所、そして、記憶エリアぶりの位置情報を格納すること。交換した後に、第1のSPMは第2のSPMについての情報（第2の位置情報）によって、傾く。そして、それはSPMサンプル上の第2のSPMについての情報およびサンプル参照場所の位置は、識別されるを含む。排気量は第2のSPMについての情報および第1のSPMについての情報の位置の間で、第１および第２の位置情報に基づいて算出される。そして、SPMサンプルを支持している第2のSPMについての情報か段階は翻訳される ― 算出置換に従って第2のSPMについての情報を第1のSPMについての情報の位置に合わせるために。 Abstract: A system and method for aligning prior patterning positions formed by a first SPM tip with a second SPM tip in combination with an SPM system includes identifying first location information that includes a location of the first SPM tip and a sample reference location on an SPM sample and storing the first location information in a storage area. After replacing the first SPM tip with the second SPM tip, second location information, which includes a location of the second SPM tip and the sample reference location on the SPM sample, is identified. Displacement is calculated between the location of the second SPM tip and the first SPM tip based on the first and second location information, and either the second SPM tip or a stage supporting the SPM sample is translated to align the second SPM tip with the location of the first SPM tip in accordance with the calculated displacement. Priority: US US2002367514P 20020327 US US2003366717A 20030214 20/20 [Back] [Next] [Text/USPTO] [Img,Txt/EPO] [Img/全頁] メール検討依頼書 US7278301 B2 システム ― サンプルを検出するためのSystem for sensing a sample KLA TENCOR CORP Inventor(s):McWaid, Thomas ; Panagas, Peter ; Eaton, Steven G. ; Samsavar, Amin ; Wheeler, William R. Application No. US2006423098A, Filed:20060608 , Published: 20071009 US.Class: 073105 ECLA: G01N001310 G01Q020500 G01Q020504 G01Q020506 G01Q024500 Y01N000800 Intl. Class: G01B000528 G01N001310 G01N001316 G12B002102 G12B002120 【抄録】プロフィーラまたは走査形プローブ顕微鏡は、制御されるそれらの間の距離を有する試料表面全体に走査されるかもしれない ― 検知先端ができるために ― 断続的に表層を接触させることが ― 興味がある特徴を見つけて、測定するために。距離は制御される ― 検知先端が上下するために ― 試料表面を触診するために、横方向の相対運動が先端およびサンプルの間にない。これは、先端損害を予防する。試料表面の高さ配布についての従来の知識が、提供されるかもしれなくてまたは測定されるかもしれなくて、まず最初に検知先端を配置するためにまたは分離を先端およびサンプルとの横方向の接触を避けるために制御する際に使われるかもしれない。プロセスは、また、2つのパーツにおいて、実行されるかもしれない：速い検索モード ― 特徴および次の測定モードがわかるために ― 特徴を測定すると。速足モードは、また、実行されるかもしれない ― 100ナノメートルより小さい横方向の相対運動のステップを選ぶことによって、 ― 先端損害の確率を減らすために。このモードにおいて、各々の垂直ステップの後 ― 先端およびサンプルの間で分離を増やすために、それは検出される ― 先端およびサンプルが接触しているかどうか。それらが垂直ステップの後、まだ接触している場合、一つ以上の垂直ステップは必要にされる ― 分離を増やすには、そして、垂直処置はとられない ― 分離を減らすために、そして、横方向の相対運動は生じられない ― 決定されるまで ― 先端およびサンプルがもはや接触していないと。 Abstract: A profiler or scanning probe microscope may be scanned across a sample surface with a distance between them controlled to allow the sensing tip to contact the surface intermittently in order to find and measure features of interest. The distance is controlled so that when the sensing tip is raised or lowered to touch the sample surface, there is no lateral relative motion between the tip and the sample. This prevents tip damage. Prior knowledge of the height distribution of the sample surface may be provided or measured and used for positioning the sensing tip initially or in controlling the separation to avoid lateral contact between the tip and the sample. The process may also be performed in two parts: a fast find mode to find the features and a subsequent measurement mode to measure the features. A quick step mode may also be performed by choosing steps of lateral relative motion to be smaller than 100 nanometers to reduce probability of tip damage. In this mode, after each vertical step to increase the separation between the tip and the sample, it is detected as to whether the tip and the sample are in contact. If they are still in contact after the vertical step, one or more vertical steps are taken to increase the separation, and no vertical step to reduce the separation is taken and no lateral relative motion is caused until it is determined that the tip and the sample are no longer in contact. Priority: US US1994362818A 19941222 US US1996598848A 19960209 US US1996730641A 19961011 US US1999313962A 19990518 US US2002330901A 20021226 US US2003729609A 20031205 US US2005192808A 20050728 US US2006423098A 20060608 --- End of data re-processed by SGshotEx V12.92 ---